[发明专利]台系统和光刻设备

说明书

光刻设备包括光学传感器(24)、可移动主体(20)、支撑件、偏转器系统(22)、第一驱动系统和第二驱动系统。可移动主体能够相对于传感器移动。支撑件用于保持传感器。第一驱动系统被设置为使可移动主体相对于传感器移动。第二驱动系统被设置为使第一驱动系统相对于传感器移动。第二驱动系统被设置为使偏转器系统相对于传感器移动。可移动主体的移动引起扰动。偏转器系统被设置为形成用于将扰动反射离开支撑件的偏转区域。

本申请是申请日为2015年06月25日、申请号为2015800435896、发明名称为“光刻设备和方法”的专利申请的分案申请。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2014年8月15日递交的欧洲申请14181162.0的权益，并且其通过引用全文并入本文。

技术领域

本发明涉及一种光刻设备和一种用于测量主体的位置的方法。

背景技术

光刻设备是一种可用在集成电路(IC)的制造中的设备。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以经由投影系统通过辐射束将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分上。通常地，图案的转移是通过把图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材料层上进行的。辐射束入射到目标部分上的部位被称为曝光部位。

通常地，辐射束的横截面远小于衬底的表面。因此，为了曝光在衬底的表面上的所有目标部分，衬底被相对于投影系统移动。光刻设备具有台系统，以相对于投影系统移动衬底。所述台系统能够以如下方式移动衬底，即所述目标部分相继地被放置在辐射束的路径中。

为了将目标部分中的每一个准确地放置在辐射束的路径中，光刻设备设置有位置测量系统。位置测量系统测量台系统的位置。在台系统上位置测量系统确定位置所在的部位被称为测量部位。使用测量部位的位置，可以估计曝光部位。

发明内容

有一种趋势是提高位置测量系统的精度以提高图案被曝光在目标部分上的精度。以提高的精度进行曝光能够提高IC的质量。理想地，曝光部位被直接测量，但是进行这样的测量需要克服许多困难。替代地，使测量部位尽可能接近曝光部位。在美国专利申请US2011/0164238、美国专利申请US2013/0183623和美国专利申请US2013/0177857中公开了使测量部位尽可能接近曝光部位的示例。这些美国专利申请中的每一个通过引用并入本文中。然而，由于在曝光部位附近有许多光刻设备的部件，在曝光部位周围具有很少的开放空间。台系统的移动导致台系统周围的空气被扰动。由于很少的开放空间，被扰动的空气不能容易地离开曝光部位。由于被扰动的空气保留在曝光部位附近，并且由于曝光部位接近测量部位，被扰动的空气包围测量部位。测量部位周围的被扰动的空气导致空气的折射率改变，这使位置测量系统的精度恶化。

本发明的目的是提高位置测量系统的精度。

在本发明的实施例中，提供了一种光刻设备。光刻设备包括光学传感器、可移动主体、支撑件、偏转器系统、第一驱动系统和第二驱动系统。可移动主体能够相对于传感器移动。支撑件用于保持传感器。第一驱动系统被设置为使可移动主体相对于传感器移动。第二驱动系统被设置为使第一驱动系统相对于传感器移动。第二驱动系统被设置为使偏转器系统相对于传感器移动。可移动主体的移动引起扰动(disturbance)。偏转器系统被设置为形成用于将扰动反射离开支撑件的偏转区域。

在本发明的另一实施例中，提供了一种用于测量主体的位置的方法，所述方法包括：

-使主体沿第一方向相对于传感器移动；

-使主体沿第二方向相对于传感器移动；

-通过移动所述主体引起扰动；

-使偏转器系统沿第二方向相对于传感器移动，其中所述偏转器系统被设置为形成用于将扰动反射离开传感器的偏转区域。