[发明专利]双面电极及其图案化方法

说明书

一种双面电极的图案化方法，包括：提供基板，基板具有相对两表面，该两表面上分别设有第一感光层与第二感光层；设置由金属纳米线所组成的第一金属纳米线层于第一感光层上，设置由金属纳米线所组成的第二金属纳米线层于第二感光层上；以及进行双面黄光微影步骤，包括：将第一感光层及第二感光层进行曝光以定义出去除区与保留区；以及使用显影液将位于去除区的第一感光层与金属纳米线以及位于去除区的第二感光层与金属纳米线去除，以将第一金属纳米线层与第二金属纳米线层图案化而分别形成设置于该两表面上的第一电极及第二电极。更提出一种双面电极。

技术领域

本发明是关于一种双面电极及其图案化方法。

背景技术

由于透明导体可同时具有光穿透性与适当的导电性，因而常应用于许多显示或触控相关的装置中。一般而言，透明导体可以是各种金属氧化物，例如氧化铟锡(Indium TinOxide，ITO)、氧化铟锌(Indium Zinc Oxide，IZO)、氧化镉锡(Cadmium Tin Oxide，CTO)或掺铝氧化锌(Aluminum-doped Zinc Oxide，AZO)。金属氧化物薄膜可通过物理气象沉积法或化学气象沉积法而形成，并通过激光工艺而形成适当图案。然而，这些金属氧化物薄膜的制作方法可能面临高昂的成本、复杂的工艺以及低良率的问题。在部份情况下，经图案化的金属氧化物薄膜也可能有容易被观察到的问题。因此，现今发展出了多种透明导体，例如利用纳米线等材料所制作的透明导体。

然而利用纳米线制作触控电极，纳米线与周边区的金属引线在工艺上及结构上都有许多待解决的问题，例如在进行双面结构图案化的工艺中，先对基板上层的纳米银表面上进行光阻涂布，再进行曝光、显影、蚀刻等步骤，完成上层电极结构的制作之后，会先将上层完成的电极结构进行保护，再依序对下层的纳米银进行光阻涂布、曝光、显影、蚀刻等步骤。而除了一般黄光微影的图案化工艺之外，也有通过激光剥离的技术来进行图案化。上述工艺在技术上都需分别对上下两层进行制作，故工艺步骤上较为繁琐，也相对费时。

若以激光进行纳米线的图案化蚀刻时，如参数调控不当，激光多余的能量所形成的热效应，反而会破坏导线的边缘精度，甚至伤害到底下基板造成部分缺陷；另外，现有技术提及在纳米银层与基板之间加入阻挡层，但当工艺完成之后，阻挡层仍会残留在基板上，对于光学特性上(例如可见光穿透率或雾度等)造成影响，劣化了影像显示质量。

又例如传统工艺采用的蚀刻液大多为强酸性，故会导致金属引线受到蚀刻液的作用，使产品可靠度下降；另外，蚀刻液的残留问题也需要额外的清洁过程方能克服。

再一方面，利用纳米线制作触控感应电极的工艺中，通常会需要在纳米在线成形外涂层(overcoat)，以保护纳米线，但残留的外涂层夹设在焊接垫与外部电路板之间，会造成接触阻抗过高的问题。

因此在利用纳米线制作触控感应电极的工艺上、电极结构上必须依照材料特性重新设计，使产品达到较佳的表现。

发明内容

本发明的部分实施方式，提出了双面电极的图案化方法，其具有高制作效率的优势。

本发明的部分实施方式提出一种双面电极的图案化方法，包括：提供一基板，基板具有相对两表面，该两表面上分别设有第一感光层与第二感光层；设置由金属纳米线所组成的第一金属纳米线层于第一感光层上，设置由金属纳米线所组成的第二金属纳米线层于第二感光层上；以及进行双面黄光微影步骤，包括：将第一感光层及第二感光层进行曝光以定义出去除区与保留区；以及使用显影液将位于去除区的第一感光层与金属纳米线以及位于去除区的第二感光层与金属纳米线去除，以将第一金属纳米线层与第二金属纳米线层图案化而分别形成设置于该两表面上的第一电极及第二电极。

于本发明的部分实施方式中，将该第一感光层及该第二感光层进行曝光包括：设置一第一曝光源对应该第一感光层，设置一第二曝光源对应该第二感光层，其中该第一曝光源与该第二曝光源为相同波段的曝光源；其中该第一感光层吸收大于该第一曝光源的光线总能量的约80％，该第二感光层吸收大于该第二曝光源的光线总能量的约80％。