[发明专利]抛光盘及其制作方法有效
申请号: | 201810512864.X | 申请日: | 2018-05-25 |
公开(公告)号: | CN108747869B | 公开(公告)日: | 2020-05-12 |
发明(设计)人: | 刘先兵;黎宽;何琪娜 | 申请(专利权)人: | 苏州珂玛材料科技股份有限公司 |
主分类号: | B24D18/00 | 分类号: | B24D18/00;B24D3/34;B24D3/02 |
代理公司: | 北京律和信知识产权代理事务所(普通合伙) 11446 | 代理人: | 张羽;谢清萍 |
地址: | 215000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 抛光 及其 制作方法 | ||
本发明涉及一种抛光盘。其中,制备所述抛光盘的原料包括:60‑70重量份的铜粉、12‑15重量份的磨料粉、13‑15重量份的树脂、3‑6重量份的氧化铝粉以及1‑5重量份的固化剂。上述抛光盘的原料配比合理,具有很好的硬度和强度。经该抛光盘抛光后的制品的镜面粗糙度低、且平整度高。如制备同样品质的抛光制品,则可大大缩短抛光时间,提高抛光效率。具体而言,本申请的抛光盘中加入了可增强抛光盘的硬度和耐磨性的氧化铝粉以及增强抛光盘的刃磨性的磨料粉。如对氧化铝制品进行抛光,氧化铝的镜面粗糙度可以达到Ra0.2um,平整度可以达到1um。
技术领域
本发明涉及研磨加工技术领域,特别是涉及一种抛光盘及其制作方法。
背景技术
目前,含有陶瓷、石英等硬脆性制品在加工时,为提高其制品的光洁性,需对其进行镜面抛光处理。但现有的抛光盘对陶瓷或石英制品进行抛光后,抛光后的制品的镜面粗糙度高,平整度差,如需制备出同样粗糙度、平整度的制品,则具有抛光耗时长的缺点。
发明内容
基于此,本发明提供一种抛光盘,经该抛光盘抛光后的制品的镜面粗糙度低、平整度高且所需的抛光耗时短。
一种抛光盘,制备所述抛光盘的原料包括:60-70重量份的铜粉、12-15重量份的磨料粉、13-15重量份的树脂、3-6重量份的氧化铝粉以及1-5重量份的固化剂。
上述抛光盘的原料配比合理,具有很好的硬度和强度。经该抛光盘抛光后的制品的镜面粗糙度低、且平整度高。如制备同样品质的抛光制品,则可大大缩短抛光时间,提高抛光效率。具体而言,本申请的抛光盘中加入了可增强抛光盘的硬度和耐磨性的氧化铝粉以及增强抛光盘的刃磨性的磨料粉。如对氧化铝制品进行抛光,氧化铝的镜面粗糙度可以达到Ra0.2um,平整度可以达到1um。
在其中一个实施例中,所述磨料粉为金刚石粉、金刚砂粉中的至少一种。
在其中一个实施例中,所述金刚石粉的粒径为0.5μm-5μm。
在其中一个实施例中,所述树脂为聚氨酯和环氧树脂组成的复合树脂。
在其中一个实施例中,所述树脂的粒度为300目-350目。
在其中一个实施例中,所述氧化铝粉的粒径为0.4μm-0.6μm。
在其中一个实施例中,所述固化剂为双氰胺或己二酸二酰肼。
本申请还提供了一种抛光盘的制作方法。
一种抛光盘的制作方法,包括如下步骤:
将60-70重量份铜粉、12-15重量份的磨料粉、13-35重量份的树脂以及3-6重量份的氧化铝粉混合,形成混合料;
将所述混合料装入模具中、加压后脱模,得到坯体;
将所述坯体采用梯度升温煅烧的方式进行煅烧,所述煅烧温度从室温升至150℃,而后冷却。
上述抛光盘的制作方法工艺简单,制备得到的抛光盘坚固耐用,且不会破坏待抛光制品。
在其中一个实施例中,所述梯度升温煅烧的方式为:先进行第一煅烧,第一煅烧温度设为80℃,第一煅烧时间为20min-30min;然后进行第二煅烧,第二煅烧温度设为100℃,第二煅烧时间为50min-70min;再进行第三煅烧,第三煅烧温度设为150℃,第三煅烧时间为5min-10min。
在其中一个实施例中,所述加压的压力为20N/mm2-30N/mm2。
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