[发明专利]医用植入物及其制备方法

权利要求书

1.一种医用植入物的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：

提供一氧化锆陶瓷牙根；

采用磁控溅射的方法在所述氧化锆陶瓷牙根上形成一钛膜，所述磁控溅射的金属靶材功率密度为1.5W/cm²～3W/cm²，其中所述钛膜的厚度≥400nm；

将带有所述钛膜的氧化锆陶瓷牙根作为阳极，惰性导电材料作为阴极，酸性溶液为电解液，进行阳极氧化，使所述钛膜的表层被氧化而形成氧化钛层，所述钛膜的底层未被氧化，得到彩色膜，其中，所述氧化钛层的厚度为10nm～240nm。

2.根据权利要求1所述的医用植入物的制备方法，其特征在于，所述钛膜的晶粒≤100nm。

3.根据权利要求1所述的医用植入物的制备方法，其特征在于，所述阳极氧化的电压为5V～100V，所述钛膜在所述电压下进行阳极氧化至所述氧化钛层的厚度不再增加为止而停止阳极氧化。

4.根据权利要求1所述的医用植入物的制备方法，其特征在于，所述磁控溅射的真空腔室的背底真空小于7.0×10^-4Pa，工作气压为0.2Pa～1Pa。

5.根据权利要求1所述的医用植入物的制备方法，其特征在于，所述磁控溅射的腔室内工作温度为80℃～100℃。

6.根据权利要求1所述的医用植入物的制备方法，其特征在于，所述酸性溶液包括磷酸和硫酸，所述磷酸的摩尔浓度为0.05mol/L～0.7mol/L，所述硫酸的摩尔浓度为0.02mol/L～0.15mol/L。

7.一种如权利要求1～6任一项制备方法得到的医用植入物，其特征在于，所述彩色膜包括位于表层的氧化钛层和位于底层的钛层，所述氧化钛层的厚度为10nm～240nm。