[发明专利]一种含B/Zr/Si/C复相陶瓷材料的制备方法有效

专利信息
申请号: 201810435181.9 申请日: 2018-05-09
公开(公告)号: CN108546127B 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 周权;倪礼忠;杨明泽 申请(专利权)人: 华东理工大学
主分类号: C04B35/56 分类号: C04B35/56;C04B35/563;C04B35/571;C04B35/58;C04B35/622
代理公司: 上海一平知识产权代理有限公司 31266 代理人: 高一平;徐迅
地址: 200237 上海市徐汇*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 zr si 陶瓷材料 制备 方法
【说明书】:

发明公开了一类B/Zr/Si/C复相陶瓷材料的制备方法。本方法采用一种在固化过程中可以发生Diels‑Alder反应和Si‑H加成反应的硅炔树脂(PTSA),一种易溶于低沸点有机溶剂、富含硼元素的含硼前驱体(PBS),以及一种溶解性良好、锆含量较高的含锆前驱体(ZMP),由共混法得到锆硅硼炔均相溶液PBZ。该制备方法工艺简单、操作方便,并且改善了共混法的不均一性以及直接合成法的难控制性及异质元素含量低等缺点,制备得到的陶瓷前驱体具备良好的储存稳定性,有助于实现B/Zr/Si/C复相陶瓷材料在耐烧蚀领域的广泛应用。

技术领域

本发明属于高性能树脂基陶瓷前驱体制备技术领域,特别涉及一种B/Zr/Si/C复相陶瓷材料前驱体的合成方法及其制备。

背景技术

当前,含B、Zr、C等元素的有机陶瓷前驱体树脂一直是研究热点,与传统制备方法相比,利用液态陶瓷前驱体制备陶瓷能够使反应物混合更加均匀(原子尺度或分子尺度均匀混合)从而能够在较低的合成温度下得到纯净的陶瓷材料,很大程度上提高了可操作性。可以适用于制备耐高温聚合物的基体、陶瓷化前驱体、耐烧蚀材料等。

本发明中硼的来源为二十面体笼形结构1,7-碳硼烷(C2B10H12)。

该物质无毒、稳定性好、硼含量高、笼形结构具有非常优异的热稳定性,在空气中于680℃保持稳定,能有效提高先驱体的耐热及热氧化性能。同时热解过程中,原位生成的B4C在高温烧蚀作用下,硼原子被氧化为B2O3形成熔融流动态,可以填补和修复烧蚀形成的微裂纹,具有自愈合抗氧化能力,提高材料的耐烧蚀性能;同时B4C颗粒可提高SiC材料的断裂韧性,当复合材料受到破坏应力时,B4C颗粒大量拔出,防止发生灾难性破坏。因此B原子的引入使得SiC/ZrC/ZrB2/B4C复相陶瓷比仅含SiC/ZrC陶瓷体系表现出更为优异的耐烧蚀和力学性能;同时,原位生成的ZrC、ZrB2、B4C颗粒细小、分布均匀,具有高熔点、高硬度、高化学稳定性和耐烧蚀的特点,并且在高温下具有良好的机械性能,大幅提高B/Zr/Si/C复合材料的耐烧蚀及抗热冲刷性能,抵御超高温烧蚀环境。

本发明采用直接共混法将一种在固化过程中可以发生Diels-Alder反应和Si-H加成反应的硅炔树脂PTSA,一种能发生Si-H加成反应、溶解性良好、硼含量高的含硼前驱体PBS,以及一种溶解性良好、锆含量较高的含锆前驱体ZMP,利用三者在低沸点有机溶剂中优异的溶解性,制备硼锆硅均相前驱体,经过热处理后得到B/Si/Zr/C复相陶瓷材料,其较高的陶瓷转化率和硼锆含量,有望在耐烧蚀材料的研究领域得到进一步发展。

发明内容

将硼、锆元素引入含硅聚合物中制备B/Zr/Si/C复相陶瓷材料,可以很大程度提高材料的耐烧蚀性能。本发明利用合成的硅炔树脂PTSA作为硅源,以富含硼且溶解性良好的含硼聚合物PBS作为硼源,以溶解性良好的含锆聚合物ZMP作为锆源,利用三者的良好溶解性,以质量比1:1:1.2、1:1:1.5、1:1:2 共混得到硼锆硅均相前驱体PBZ。将其置于高纯氩气气氛下1600~1800℃热处理3~5h,即得到B/Zr/Si/C复相陶瓷材料。

本发明所述硅炔树脂PTSA为一类分子主链结构中含有C≡C和Si-H基团的杂化聚合物,其固化过程中可发生交联反应变为三维网络结构,其结构式见说明书附图1,图1为硅炔树脂PTSA的结构式。

本发明所述含硼聚合物PBS,易溶于低沸点有机溶剂,具有较高的硼含量以及Si-H基团,其固化过程中可发生交联反应变为三维网络结构,其结构式见说明书附图2,图2为含硼前驱体PBS的结构式。

本发明采用了一种含锆聚合物ZMP,其具有良好的溶解性和较高的锆含量,其结构见说明书附图3,图3为含锆前驱体ZMP的结构式。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华东理工大学,未经华东理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810435181.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top