[发明专利]低镉含量的量子点膜及其制备方法和应用在审
| 申请号: | 201810408056.9 | 申请日: | 2018-05-02 |
| 公开(公告)号: | CN108666404A | 公开(公告)日: | 2018-10-16 |
| 发明(设计)人: | 向爱双;邓正涛;王石 | 申请(专利权)人: | 向爱双;邓正涛 |
| 主分类号: | H01L33/50 | 分类号: | H01L33/50;H01L33/58 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 210023 江苏省南京市栖霞*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 量子点层 量子点 低镉 制备方法和应用 分隔层 无镉 制备 | ||
1.一种低镉含量的量子点膜,其包含:一层无镉绿色量子点层,一层镉系红色量子点层,其中,所述绿色量子点层和所述红色量子点层中的量子点各自分散在包含聚合物材料的介质中,以及所述绿色量子点层和所述红色量子点层之间可设分隔层,和在所述绿色量子点层和所述红色量子点层外侧分别有阻隔膜层。
2.如权利要求1所述的量子点膜,其中,所述无镉绿色量子点层的量子点为钙钛矿量子点、磷化铟量子点的一种或混合,在蓝色主光源下可发出单一或多峰位的次级光绿光,其峰位范围为510nm到550nm。
3.如权利要求1所述的量子点膜,其中,所述镉系红色量子点层含有单一发光峰位的核壳结构的镉系发光纳米晶体,其峰位范围为610nm到670nm。
4.如权利要求1所述的量子点膜,其中,所述无镉绿色量子点层包含10质量份的所述介质和0.01至2质量份,优选0.03至1.5质量份,更优选0.03至1.0质量份的绿色量子点材料,和所述绿色量子点层的厚度范围为5到100微米,优选10到50微米。
5.如权利要求1所述的量子点膜,其中,所述镉系红色量子点层包含10质量份的所述介质和0.001至0.2质量份,优选0.005至0.15质量份,更优选0.01至0.1质量份的红色量子点材料,和所述红色量子点层的厚度范围为5到100微米,优选10到50微米。
6.如权利要求1所述的分散量子点的介质,其中可包含光扩散粒子,该光扩散粒子选自二氧化硅微球、二氧化钛微球、改性有机硅微球、高分子微球和它们的组合;所述光扩散粒子粒径范围为0.5到20微米,相对于10质量份的所述聚合物材料,所述光扩散粒子的添加量为0.01到2质量份。
7.如权利要求1所述的分散量子点的聚合物材料包含UV聚合物,如含丙烯酸系单体、环氧树脂共聚体和光引发剂的聚合物材料;也包含用其它方法得到的聚合物,如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯(PC)等。
8.如权利要求1所述的量子点膜,其包含分隔层的制备方法为:步骤1,在第一阻隔基膜上涂布无镉绿色量子点材料或者镉系红色量子点材料,覆盖非易离型分隔层,固化干燥量子点材料,形成具有第一阻隔基膜、单一量子点层和分隔层的量子点复合基膜;步骤2,在第二阻隔基膜上涂布镉系红色量子点材料,覆盖步骤1所形成的绿色量子点复合基膜,分隔层一面接触镉系红色量子点材料,固化干燥量子点材料,制成包含分隔层的量子点膜;或者在第二阻隔基膜上涂布无镉绿色量子点材料,覆盖步骤1所形成的红色量子点复合基膜,分隔层一面接触无镉绿色量子点材料,固化干燥量子点材料,制成包含分隔层的量子点膜。
9.如权利要求1所述的量子点膜,其不包含分隔层的制备方法为:步骤1,在第一阻隔基膜上涂布无镉绿色量子点材料或者镉系红色量子点材料,覆盖易离型分隔层,易离面接触量子点材料,固化干燥量子点材料,形成具有第一阻隔基膜、单一量子点层和易离型基膜的量子点复合基膜;步骤2,将步骤1所形成的量子点复合基膜的易离型分隔层剥离,得到具有第一阻隔基膜和单一量子点层的第二复合基膜;步骤3,在第二阻隔基膜上涂布镉系红色量子点材料,覆盖步骤2所形成的绿色量子点第二复合基膜,量子点一面接触镉系红色量子点材料,固化干燥量子点材料,制成不包含分隔层的量子点膜;或者在第二阻隔基膜上涂布无镉绿色量子点材料,覆盖步骤2所形成的红色量子点第二复合基膜,量子点一面接触无镉绿色量子点材料,固化干燥量子点材料,制成不包含分隔层的量子点膜。
10.如权利要求1、8-9所述的分隔层,包含聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯(PC)等薄膜。
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