[发明专利]一种差异化微结构的同步湿法刻蚀加工方法有效
| 申请号： | 201810338811.0 | 申请日： | 2018-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN108658036B | 公开（公告）日： | 2019-02-26 |
| 发明（设计）人： | 陈新;陈云;施达创;陈桪;刘强;高健;崔成强 | 申请（专利权）人： | 广东工业大学 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 佛山市禾才知识产权代理有限公司 44379 | 代理人： | 资凯亮;单蕴倩 |
| 地址： | 510062 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 待加工工件 加工 掩膜板 刻蚀 湿法刻蚀 图形区域 微结构 湿法刻蚀装置 加工工件 刻蚀结构 冷却降温 区域形成 加工面 刻蚀液 深宽比 温度差 保留 放入 光刻 微孔 显影 粘贴 背面 取出 制造 | ||
1.一种差异化微结构的同步湿法刻蚀加工方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤a：对待加工工件的加工面进行光刻加工，使其显影后，所述待加工工件的加工面需要加工的图形区域材料露出，不需要加工的图形区域表面覆盖光刻胶层；
步骤b：在待加工工件的背面，即与所述加工面相对的一侧的表面，粘贴掩膜板，所述掩膜板上的加工目标图形与所述加工面上需要加工的图形区域形状相同且对齐；
步骤c：对所述待加工工件背面粘贴的掩膜板进行持续冷却降温；
步骤d：将持续降温冷却的掩膜板和待加工工件放入湿法刻蚀装置中，并在待加工工件的加工面加入刻蚀液，开始进行刻蚀；
步骤e：设置刻蚀时间，经过设定时间后取出掩膜板和待加工工件，中止刻蚀反应，并将所述掩膜板和所述待加工工件分离，最终获得具有目标刻蚀结构工件。
2.根据权利要求1所述的一种差异化微结构的同步湿法刻蚀加工方法，其特征在于，所述步骤a中所述待加工工件为晶圆，由硅制成。
3.根据权利要求1所述的一种差异化微结构的同步湿法刻蚀加工方法，其特征在于，所述步骤a中所述光刻胶层的厚度为10nm-10μm。
4.根据权利要求1所述的一种差异化微结构的同步湿法刻蚀加工方法，其特征在于，所述步骤b中所述掩膜板由遮光层和基层组成；所述基层由不锈钢或铜制成。
5.根据权利要求1所述的一种差异化微结构的同步湿法刻蚀加工方法，其特征在于，所述步骤c和/或所述步骤d中，对所述掩膜板进行持续降温冷却的方式为：使用流动的液氮对掩膜板进行冷却降温。
6.根据权利要求1所述的一种差异化微结构的同步湿法刻蚀加工方法，其特征在于，所述步骤d中刻蚀液为TMAH刻蚀液或KOH刻蚀液。
7.根据权利要求1所述的一种差异化微结构的同步湿法刻蚀加工方法，其特征在于，所述步骤e中设置刻蚀时间为5分钟-5小时。
8.根据权利要求1所述的一种差异化微结构的同步湿法刻蚀加工方法，其特征在于，所述步骤e中所述目标刻蚀结构中包括的微孔或槽的深宽比大于5。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东工业大学，未经广东工业大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810338811.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
