[发明专利]一种蚀刻设备

说明书

本发明公开了一种蚀刻设备，该蚀刻设备包括蚀刻腔，该蚀刻腔包括：上电极板，固定设置在该蚀刻腔的一侧部；下电极板，可活动地设置在该蚀刻腔相对的另一侧部，该下电极板包括靠近该蚀刻腔的底部的下端部和与该下端部对应的上端部，该下电极板以该下端部为转轴旋转，进而可使该下电极板在非蚀刻过程中与该上电极板之间呈垂直状态，在蚀刻过程中与该上电极板之间呈平行状态。通过上述方式，本发明能够提高蚀刻后产品质量的稳定性，同时降低设备维护成本。

技术领域

本发明涉及蚀刻技术领域，特别是涉及一种蚀刻设备。

背景技术

低温多晶硅显示技术中，干法蚀刻过程用于制备精细的图形导线及控制图形的高深宽比，以使产品获得较好的开口率及像素密度。

现有的干法蚀刻过程中，待蚀刻的基板与上电极板均位于水平方向，进行多次蚀刻后，蚀刻过程产生的生成物将逐渐粘附在上电极板上，上电极板生成物达到一定程度，粘附不稳定则会掉落至待蚀刻基板上形成蚀刻残留问题。通常采用生成物粘附性较稳定的高品质材料制备的所述上电极板或提高保养频率，经常清理或更换上电极板零件的方式避免上述问题，不仅成本高，且产品质量不稳定。

本申请的发明人在长期的研发过程中，发现现有的蚀刻设备维护成本高，生产的产品质量稳定性差。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种蚀刻设备，能够提高蚀刻后产品质量的稳定性，同时降低设备维护成本。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种蚀刻设备。

其中，该蚀刻设备包括蚀刻腔，该蚀刻腔包括：

上电极板，固定设置在该蚀刻腔的一侧部；

下电极板，可活动地设置在该蚀刻腔相对的另一侧部，该下电极板包括靠近该蚀刻腔的底部的下端部和与该下端部对应的上端部，该下电极板以该下端部为转轴旋转，进而可使该下电极板在非蚀刻过程中与该上电极板之间呈垂直状态，在蚀刻过程中与该上电极板之间呈平行状态。

本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明通过在该下电极板上设置了用于带动该下电极板旋转的该下端部，使得该下电极板和该上电极板的相对位置可以根据需要进行调节。在非蚀刻过程中，能够在水平方向接收该待蚀刻的基板；在蚀刻过程中，通过该下端部的旋转，能够使该下电极板和该上电极板相互平行且位于非水平方向。由于气体倾向于向上运动，这样，能够有效避免蚀刻过程产生的气体在该上电极板上沉积，也不需生成物粘附性较稳定的高品质材料制备的所述上电极板；即使有少量气体沉积到该上电极上，由于该上电极板处于非水平方向，该沉积物也不会脱落至该下电极板上，也就保证该待蚀刻的基板表面的清洁，避免蚀刻设备的频繁清洁维护，降低成本；同时，蚀刻后的基板表面清洁，能够提高产品质量。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。其中：

图1是本发明一种蚀刻设备一实施方式第一工作状态的结构示意图；

图2是本发明一种蚀刻设备一实施方式第二工作状态的结构示意图；

图3是本发明一种蚀刻设备另一实施方式第一工作状态的结构示意图；

图4是本发明一种蚀刻设备另一实施方式第二工作状态的结构示意图；

图5是本发明一种蚀刻设备另一实施方式第三工作状态的结构示意图。

具体实施方式