[发明专利]静电电容测量用的测量器有效
申请号: | 201810263265.9 | 申请日: | 2018-03-28 |
公开(公告)号: | CN108693409B | 公开(公告)日: | 2021-05-04 |
发明(设计)人: | 杉田吉平;南朋秀;西尾哲 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | G01R27/26 | 分类号: | G01R27/26 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 静电 电容 测量 测量器 | ||
本发明涉及静电电容测量用的测量器,能够对由环境引起的静电电容的测量值的变动进行修正。测量器具备基底基板、第一传感器、一个以上的第二传感器、以及电路基板。第一传感器具有沿着基底基板的边缘设置的第一电极。一个以上的第二传感器提供一个以上的第二电极,分别固定在基底基板上。电路基板搭载在基底基板上,与第一传感器及一个以上的第二传感器连接。电路基板构成为:对第一电极和一个以上的第二电极提供高频信号,根据第一电极中的电压振幅获取与静电电容对应的第一测量值,根据一个以上的第二电极中的电压振幅获取与静电电容对应的一个以上的第二测量值。测量器具有被固定在该测量器内并且面对一个以上的第二电极的一个以上的基准面。
技术领域
本发明涉及一种静电电容测量用的测量器。
背景技术
在半导体器件之类的电子器件的制造中,使用对圆盘状的被加工物进行处理的处理系统。处理系统具有用于搬送被加工物的搬送装置和用于处理被加工物的处理装置。一般来说,处理装置具有腔室主体和设置在该腔室主体内的载置台。载置台构成为对载置于其上的被加工物进行支承。搬送装置构成为向载置台上搬送被加工物。
在处理装置中的被加工物的处理中,被加工物在载置台上的位置很重要。因而,在被加工物在载置台上的位置相对于规定位置偏移的情况下,需要调整搬送装置。
作为调整搬送装置的技术,已知专利文献1所记载的技术。在专利文献1所记载的技术中,在载置台上形成有凹部。另外,在专利文献1所记载的技术中,利用具有与被加工物同样的圆盘形状且具有用于测量静电电容的电极的测量器。在专利文献1所记载的技术中,利用搬送装置将测量器搬送到载置台上,获取依赖于凹部与电极的相对位置关系的静电电容的测量值,基于该测量值来调整搬送装置,以修正被加工物的搬送位置。
专利文献1:日本专利第4956328号说明书
发明内容
然而,在如上述的技术那样的测量静电电容的测量器中,即使静电电容测量用的电极与面对该电极的对象物之间的距离相同,测量出的静电电容的测量值也会根据温度、湿度等周围环境的变化而发生变动。因此,寻求一种构成为能够对由环境引起的静电电容的测量值的变动进行修正的测量器。
在一个方式中,提供一种静电电容测量用的测量器。测量器具备基底基板、第一传感器、一个以上的第二传感器、以及电路基板。第一传感器具有沿着基底基板的边缘设置的第一电极。一个以上的第二传感器各自提供一个以上的第二电极从而提供一个以上的第二电极,所述一个以上的第二传感器分别固定在基底基板上。电路基板搭载在基底基板上,与第一传感器及一个以上的第二传感器连接。电路基板构成为对第一电极和一个以上的第二电极提供高频信号,根据第一电极中的电压振幅获取与静电电容对应的第一测量值,根据一个以上的第二电极中的电压振幅获取与静电电容对应的一个以上的第二测量值。测量器具有被固定在该测量器内并且面对一个以上的第二电极的一个以上的基准面。
在一个方式所涉及的测量器中,第一电极沿着基底基板的边缘设置。因而,根据第一电极中的电压振幅获取的第一测量值表示将第一电极与存在于该第一电极的前方的对象物之间的距离反映在内的静电电容。该第一测量值能够根据温度、湿度等周围环境的变化而发生变动。测量器具备一个以上的第二传感器,以能够修正第一测量值的与环境对应的变动。一个以上的第二传感器的一个以上的第二电极面对一个以上的基准面。一个以上的第二电极和一个以上的基准面被固定在测量器内。因而,一个以上的第二电极各自与对应的基准面之间的距离是固定的。因此,只要周围环境不发生变化,一个以上的第二测量值就不发生变动。换言之,一个以上的第二测量值的变动反映周围环境的变化。能够基于所述的一个以上的第二测量值的变动来修正第一测量值。既可以在电路基板中执行该修正,或者也可以在能够与测量器通信的计算机装置中执行该修正。
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