[发明专利]图形显影装置及显影方法

说明书

本发明涉及一种图形显影装置及显影方法，装置包括冲洗喷头，冲洗喷头与固定安装部及管路连接，冲洗喷头具有喷嘴；振动装置具有变幅杆，变幅杆设置在固定安装部上且延伸至与喷嘴的中心轴线相交位置；载台位于冲洗喷头和振动装置下方，具有固定部和转动装置；控制系统与管路、振动装置以及转动装置电连接。方法包括将晶圆配置于固定部上，向晶圆喷涂显影液；控制系统控制转动装置带动固定部转动；控制系统控制管路输送清洗液经由喷嘴喷出，清洗液经过变幅杆获得声波能量后对晶圆表面进行冲洗。本发明的喷头喷出的清洗液经由变幅杆振动后，清洗液获得声波能量，因此能够更有效的清洁晶圆表面杂质，同时缩短了晶圆在清洗液中的浸蚀时间。

技术领域

本发明涉及半导体的集成电路制作技术领域，特别涉及一种图形显影装置及显影方法。

背景技术

在晶圆上制作集成电路的过程中，显影是光刻工艺中将曝光后的光刻胶图案化去除的步骤，其动作顺序为喷淋显影液、去离子水冲洗以及甩干三个过程。由于显影液的反应过程是酸碱中和反应，因此当在晶圆上用去离子水清洗时，晶圆中心点的强碱性骤降，酸碱中和反应发生逆反应，从而导致不容物质析出回粘到晶圆上的问题产生。特别是在晶圆上连接孔的制程工艺中，当不溶物质析出后使连接孔被残留物遮挡住，会导致晶圆后续蚀刻制程失效，蚀刻后的连接孔图形丢失或不完整，使得晶圆产品的良率降低。

在背景技术中公开的上述信息仅用于加强对本发明的背景的理解，因此其可能包含没有形成为本领域普通技术人员所知晓的现有技术的信息。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提供一种图形显影装置及显影方法，以解决或缓解现有技术中存在的技术问题，至少提供一种有益的选择。

本发明实施例的技术方案是这样实现的：

根据本发明的一个实施例，提供一种图形显影装置，包括：

第一固定安装部；

冲洗喷头，所述冲洗喷头与所述第一固定安装部及第一管路连接，所述冲洗喷头具有第一喷嘴，所述第一管路用于输送清洗液至所述冲洗喷头中；

振动装置，具有用于产生第一振幅的变幅杆，其中，所述变幅杆的一端设置在所述第一固定安装部上，另一端延伸至与所述第一喷嘴的中心轴线相交位置，所述变幅杆与所述冲洗喷头和所述第一喷嘴之间的间距均大于所述第一振幅范围；

载台，位于所述冲洗喷头和所述振动装置下方，所述载台具有用于放置晶圆的固定部，所述固定部底部设置有转动装置；以及

控制系统，与所述第一管路、所述振动装置以及所述转动装置电连接；所述控制系统用于控制所述转动装置带动所述载台转动、用于控制所述第一管路输送所述清洗液，以使所述清洗液经由所述第一喷嘴喷出、以及用于控制所述振动装置的所述变幅杆产生所述第一振幅，所述清洗液经过所述变幅杆获得声波能量后对所述晶圆表面进行冲洗。

在一些实施例中，所述变幅杆相对所述第一固定安装部竖直设置，所述冲洗喷头相对所述第一固定安装部倾斜设置，且所述冲洗喷头的所述第一喷嘴朝向所述变幅杆倾斜向下延伸。

在一些实施例中，所述变幅杆的长度小于所述第一固定安装部与所述晶圆端面之间的间距。

在一些实施例中，所述冲洗喷头相对所述第一固定安装部的倾斜角度范围为20°～70°。

在一些实施例中，所述冲洗喷头相对所述第一固定安装部竖直设置，所述变幅杆相对所述第一固定安装部倾斜设置，且所述变幅杆的所述另一端朝向所述冲洗喷头的所述第一喷嘴倾斜向下延伸。

在一些实施例中，所述变幅杆的所述另一端与所述晶圆端面之间的间距大于所述变幅杆的振幅范围。

在一些实施例中，所述变幅杆相对所述第一固定安装部的倾斜角度范围为20°～70°。