[发明专利]一种抗指纹化合物及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种抗指纹化合物，其特征在于，所述抗指纹化合物的化学结构式如式(Ⅰ)所示：

其中，R¹为H或C₆～C₁₀的芳香基；R²为甲基、乙基、丙基或异丙基。

2.一种抗指纹化合物的制备方法，其特征在于，包括：

(1)提供化合物B，B：其中，X为Br或I；

在保护气体气氛下，将所述化合物B与烯烃溶于第一有机溶剂，加入引发剂，在50～150℃下搅拌反应1～30h，将所得反应液纯化后得到化合物C，

C：其中，R¹为H或C₆～C₁₀的芳香基；X为Br或I；

(2)将所述化合物C和路易斯碱在第二有机溶剂中，于-10～150℃下搅拌反应1～30h，将所得反应液纯化后得到化合物D，

D：其中，R¹为H或C₆～C₁₀的芳香基；

(3)提供如式(Ⅱ)所示的三烷氧基硅烷：其中，R²为甲基、乙基、丙基或异丙基；

在保护气体气氛下，将所述化合物D与所述三烷氧基硅烷在第三有机溶剂中，在硅氢加成反应催化剂存在下，于0～150℃下搅拌反应1～30h，将所得反应液纯化后得到如式(Ⅰ)所示的抗指纹化合物，

其中，R¹为H或C₆～C₁₀的芳香基；R²为甲基、乙基、丙基或异丙基。

3.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述化合物B、烯烃与引发剂的摩尔比为1：(1.5～25)：(0.01～2.0)；

步骤(2)中，所述化合物C与路易斯碱的摩尔比为1：(1.5～5.0)；

步骤(3)中，所述化合物D、三烷氧基硅烷和所述硅氢加成反应催化剂的摩尔比为1：(1.5～25)：(0.001～0.10)。

4.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述引发剂为连二亚硫酸钠、过氧化苯甲酰、偶氮二异丁腈、双氧水、亚硫酸氢钠、雕白粉和过氧醇化合物中的一种或多种。

5.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，所述路易斯碱为碱土金属化合物、碱金属化合物、过渡金属氧化物和有机碱中的至少一种。

6.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述第一有机溶剂为醚类溶剂、腈类溶剂、酰胺类溶剂、砜类溶剂、酯类溶剂、醇类溶剂和烃类溶剂中的一种或多种；所述第二有机溶剂包括烃类溶剂、醚类溶剂、腈类溶剂、酰胺类溶剂和砜类溶剂中的一种或多种；所述第三有机溶剂包括醚类溶剂、腈类溶剂、酰胺类溶剂、砜类溶剂、酯类溶剂和烃类溶剂中的一种或多种。

7.一种抗指纹剂，其特征在于，包括抗指纹化合物和有机溶剂，所述抗指纹化合物的化学结构式如式(Ⅰ)所示：

其中，R¹为H或C₆～C₁₀的芳香基；R²为甲基、乙基、丙基或异丙基。

8.如权利要求7所述的抗指纹剂，其特征在于，所述抗指纹剂中，所述抗指纹化合物的质量占比为0.1％-30％。

9.如权利要求7所述的抗指纹剂，其特征在于，所述有机溶剂包括烃类溶剂、醚类溶剂和酯类溶剂中的一种或多种。

10.一种具有抗指纹涂层的制件，其特征在于，包括制件基体以及形成在所述制件基体表面上的抗指纹涂层，其中，所述抗指纹涂层由如权利要求7-9任一项所述的抗指纹剂涂覆形成。