[发明专利]发光器件及其制备方法、显示装置有效
申请号: | 201810175438.1 | 申请日: | 2018-03-02 |
公开(公告)号: | CN110224072B | 公开(公告)日: | 2021-09-14 |
发明(设计)人: | 王建太;邢汝博;杨小龙;刘会敏;孙萍;韦冬 | 申请(专利权)人: | 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司;昆山国显光电有限公司 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/56;H01L27/32 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 唐清凯 |
地址: | 215300 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光 器件 及其 制备 方法 显示装置 | ||
本发明涉及一种发光器件及其制备方法、显示装置,其中发光器件的制备方法包括:提供阳极,依次沉积空穴功能材料、发光材料和阴极材料,得到空穴功能层、发光层和阴极;其中,所述空穴功能材料包括金属氧化物;所述沉积空穴功能材料的步骤之前还包括通过水溶液法制备金属氧化物的步骤。上述发光器件的制备方法,空穴功能材料通过水溶液法制备得到,制备过程简单且绿色环保,非常匹配溶液法制备发光层的应用。
技术领域
本发明涉及显示领域,特别是涉及发光器件及其制备方法、显示装置。
背景技术
金属氧化物例如MoO3、NiO和V2O5等,由于其具有良好的能级结构和稳定性逐渐被认为是传统空穴功能层材料的替代材料。其中,MoO3因其较宽的能级调节能力、较深的能级结构和宽带隙等优点而备受关注。目前,在发光器件中,MoO3的制备方法主要为蒸镀法和激光脉冲沉积法等真空热沉积方法,不适用于需要使用溶液加工制备发光层的应用。而传统的液相制备MoO3,通常使用有机溶剂,不环保,此外所制备的MoO3材料的粒径分布较广,成膜均匀性较差,大大影响发光器件的整体性能。
发明内容
基于此,有必要针对以上至少一种技术问题,提供一种发光器件及其制备方法、显示装置。
一种发光器件的制备方法,包括以下步骤:
提供阳极,依次沉积空穴功能材料、发光材料和阴极材料,得到空穴功能层、发光层和阴极;
其中,所述空穴功能材料包括金属氧化物;
所述沉积空穴功能材料的步骤之前还包括通过水溶液法制备金属氧化物的步骤。
在其中一个实施例中,所述空穴功能层通过溶液法加工而成,且所述空穴功能层包括空穴注入层和空穴传输层中的至少一种。
在其中一个实施例中,所述金属氧化物包括β-MoO3,所述β-MoO3的粒径为5~10nm。
由于所制备得到的金属氧化物中β-MoO3粒径小且均匀,可提高成膜均匀性,减少成膜的粗糙度,非常适合作为QLED器件中空穴功能层的应用。
在其中一个实施例中,所述制备金属氧化物的步骤包括:
提供一含钼盐的水溶液;
边搅拌边添加酸性物质,并调节溶液体系的pH值不大于6;
持续搅拌至少24小时后,得到含纳米粒子的第一溶液;
边搅拌边加入强氧化剂,得到含金属氧化物的第二溶液;
干燥后即得。
上述制备方法,通过水作为溶剂,在酸性和强氧化剂的作用下低温合成金属氧化物,制备过程简单且绿色环保。此外,所制备得到的金属氧化物粒径小且均匀,可提高成膜均匀性,减少成膜的粗糙度,可提高器件性能,非常适合作为器件功能层的应用,尤其是作为QLED器件中空穴功能层的应用。
上述发光器件的制备方法,空穴功能材料通过水溶液法制备得到高功函的β-MoO3,制备过程简单且绿色环保。此外空穴功能层可通过溶液法加工制备而得,非常匹配溶液法制备发光层的应用。
在其中一个实施例中,所述含钼盐的水溶液中钼盐的物质的量浓度为0.005mol/L~0.05mol/L,所述钼盐包括钼酸铵、钼酸铵水合物中的至少一种。
在其中一个实施例中,所述酸性物质为强酸。
在其中一个实施例中,调节溶液体系的pH值为3~5。
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