[发明专利]X射线衍射测定方法和装置

说明书

本发明涉及一种X射线衍射测定方法和装置。该X射线衍射测定方法具有配置工序(S2)和计算工序(S7)，其中，所述配置工序(S2)将遮蔽板(26)和二维检测器(18)配置在出射光轴(32)上；所述计算工序(S7)根据由二维检测器(18)检测到的二维X射线图像(70)来计算衍射图谱，该衍射图谱表示相对于被测定物(M)的衍射角的X射线强度。在配置工序中，将遮蔽板(26)配置为，直线状的狭缝(24)相对于与入射光轴(30)和出射光轴(32)的双方垂直相交的垂直相交方向(A)，至少沿绕出射光轴(32)的轴旋转的方向(C)倾斜。据此，能够通过一次性的X射线检测动作来有效地测定被测定物。

技术领域

本发明涉及一种通过检测由于被测定物而产生的X射线的衍射来测定所述被测定物的性质状态的X射线衍射测定方法和装置(X-ray diffraction measurement methodand apparatus)。

背景技术

现有技术中已知一种X射线衍射测定方法，该方法通过向被测定物照射X射线并检测衍射图样(diffraction pattern)(以下，还简称为“图样”)来测定该被测定物的性质状态。例如，为了实现测定的高效化，而提出了多种组合使用二维狭缝(two-dimensionalslit)和二维检测器的方法。

在日本发明专利公开公报特开2015-132527号中，提出了具有狭缝板(slitplate)的X射线衍射测定装置，该狭缝板通过在遮蔽板上形成曲线形狭缝而成。通过使该狭缝板绕基准轴旋转，能够在固定二维检测器的配置的状态下进行衍射角的扫描。

发明内容

然而，在日本发明专利公开公报特开2015-132527号提出的装置中，需要用于使狭缝板旋转的旋转机构，因此，会发生装置尺寸的大型化和制造成本的上涨。

本发明是为了解决上述技术问题而完成的，其目的在于，提供一种能够通过一次性的X射线检测动作来有效地测定被测定物的X射线衍射测定方法和装置。

第1技术方案所涉及的X射线衍射测定方法为通过检测由于被测定物而产生的X射线的衍射来测定所述被测定物的性质状态的方法，其中所述被测定物位于入射光轴和出射光轴相交的交叉位置，该X射线衍射测定方法的特征在于，具有配置工序和计算工序，其中，所述配置工序将遮蔽板和二维检测器配置在所述出射光轴上，所述遮蔽板上形成有直线状的狭缝，所述二维检测器能够在检测区域内检测通过所述狭缝的X射线，所述计算工序根据由所述二维检测器检测到的二维X射线图像来计算衍射图谱(diffraction profile)，该衍射图谱表示相对于所述被测定物的衍射角的X射线强度，在所述配置工序中，将所述遮蔽板配置为：使所述狭缝相对于与所述入射光轴和所述出射光轴的双方垂直相交的垂直相交方向，至少沿绕所述出射光轴的轴旋转的方向倾斜。

这样，通过使狭缝相对于与入射光轴和出射光轴的双方垂直相交的垂直相交方向，至少沿绕出射方向的轴旋转的方向倾斜，来以确保映射的唯一性的方式限制X射线的通过。即，根据检测区域内的二维位置，衍射位置和衍射角被唯一地确定，从而能够根据检测到的二维X射线图像来计算与衍射位置对应的衍射图谱。据此，能够通过一次性的X射线检测动作来有效地测定被测定物。

另外，在所述计算工序中，也可以使用与所述交叉位置、所述狭缝和所述检测区域有关的几何学信息，来计算与所述被测定物的衍射位置对应的一幅或多幅所述衍射图谱。由于狭缝呈直线状，因此，能够使用比较简单易懂的几何学的运算，来计算与各个衍射位置对应的衍射图谱。

另外，也可以为：所述被测定物是含有多晶型(polycrystalline)且取向无序的材料，并且具有10μm以上的厚度的物体，所述被测定物被配置成所述物体的厚度方向与所述入射光轴平行的朝向。据此，能够通过一次性的X射线检测动作，同时测定在厚度方向上的各个位置的性质状态。