[发明专利]一种单晶硅片制绒剂组合物及其应用

权利要求书

1.一种单晶硅片制绒添加剂，其特征在于由以下组分配制而成：壳寡糖、N-甲基吡咯烷酮、苯扎氯铵和水，所述组分的质量百分含量为：壳寡糖0.5-5%、N-甲基吡咯烷酮1-5%、苯扎氯铵0.001-0.05%，余量为水。

2.根据权利要求1所述的一种单晶硅片制绒添加剂，其特征在于，所述的壳寡糖的分子量为500-3500，壳寡糖的脱乙酰度为40%-95%。

3.根据权利要求2所述的一种单晶硅片制绒添加剂，其特征在于，所述的壳寡糖的分子量为1000-2000，壳寡糖的脱乙酰度为50%-70%。

4.根据权利要求1所述的一种单晶硅片制绒添加剂，其特征在于，所述的水为电导率<1μs/cm的去离子水。

5.一种用于单晶硅片制绒的制绒液，其特征在于，其含有碱溶液和权利要求1-4中任意一项的制绒添加剂，所述的制绒添加剂与碱溶液的质量比为0.1-5:100。

6.根据权利要求5所述的一种用于单晶硅片制绒的制绒液，其特征在于，所述的碱溶液为1-3%的氢氧化钠或氢氧化钾水溶液。

7.一种单晶硅片的制绒方法，其特征在于，利用权利要求5或6所述的制绒液对单晶硅片进行表面制绒。

8.根据权利要求7所述的一种单晶硅片的制绒方法，其特征在于，其具体步骤包括：

1）制绒添加剂的配置：依次将质量百分比为0.5-5%的壳寡糖、1-5%的N-甲基吡咯烷酮和0.001-0.05%的苯扎氯铵溶解到余量的水中，混合均匀；

2）制绒液的配置：将步骤1）制得的制绒添加剂加到碱溶液中，混合均匀；所述的制绒添加剂与碱溶液的质量比为0.1-5:100，所述的碱溶液为浓度为1-3%的氢氧化钠或氢氧化钾水溶液；

3）将单晶硅片置入步骤2）制得的制绒液中进行制绒，制绒温度为80-88℃，制绒时间为600-1200s。