[发明专利]反射型空间光调制器、光观察装置及光照射装置有效
申请号: | 201780097494.1 | 申请日: | 2017-12-05 |
公开(公告)号: | CN111433664B | 公开(公告)日: | 2023-10-24 |
发明(设计)人: | 泷泽国治;田中博;丰田晴义;大林宁;酒井宽人;渡边翼 | 申请(专利权)人: | 浜松光子学株式会社 |
主分类号: | G02F1/015 | 分类号: | G02F1/015 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 杨琦;黄浩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反射 空间 调制器 观察 装置 照射 | ||
本发明提供一种反射型空间光调制器,其具备:电光结晶,其具有输入光被输入的输入面和与输入面相对的背面;光输入输出部,其配置于电光结晶的输入面,且具有透射输入光的第一电极;光反射部,其包含包括多个第二电极的基板,且配置于电光结晶的背面侧;驱动电路,其对第一电极与多个第二电极之间施加电场,光输入输出部包含形成于输入面上的第一电荷注入抑制层,光反射部包含形成于背面上的第二电荷注入抑制层。
技术领域
本公开涉及反射型空间光调制器、光观察装置及光照射装置。
背景技术
例如专利文献1及专利文献2公开有一种电光元件。该电光元件包含:基板、层叠于基板的铁电体的KTN(KTa1-xNbxO3)层、配置于KTN层的前面的透明电极、配置于KTN层的后面的金属电极。KTN根据温度采取四个结晶结构,为钙钛矿型的结晶结构时作为电光元件利用。这种KTN层形成于在金属电极上形成的晶种层上。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2014-89340号公报
专利文献2:日本特开2014-89341号公报
发明内容
发明所要解决的课题
专利文献1及专利文献2中记载了,通过向晶种层中添加导电性物质,而对晶种层赋予导电性。在该情况下,金属电极与KTN层电连接,因此,能够对KTN层施加电场。但是,这种结构中,当相对于KTN层从金属电极注入电荷时,由于KTN结晶内的电子的动作,调制精度可能不稳定。特别是在阵列状地形成多个电光元件的金属电极的情况下,当对晶种层赋予导电性时,输入多个金属电极的电信号混合,调制精度可能不稳定。
实施方式的目的在于,提供能够抑制输入多个电极的电信号混合,且使调制精度稳定的反射型空间光调制器、光照射装置及光观察装置。
用于解决课题的方案
一个方式提供一种反射型空间光调制器,调制输入光,且输出经调制的调制光,其中,具备:钙钛矿型电光结晶,其具有输入光被输入的输入面和与输入面相对的背面,且相对介电常数为1000以上;光输入输出部,其配置于电光结晶的输入面,且具有透射输入光的第一电极;光反射部,其包含配置有多个第二电极的基板,配置于电光结晶的背面侧,将输入光向光输入输出部反射;驱动电路,其对第一电极与多个第二电极之间施加电场,光输入输出部包含形成于输入面上的第一电荷注入抑制层,即通过在非导电性的粘接材料的固化物中具有电介质材料,而抑制电荷从第一电极向电光结晶的注入的第一电荷注入抑制层,光反射部包含形成于背面上的第二电荷注入抑制层,即通过在非导电性的粘接材料的固化物中具有电介质材料,而抑制电荷从多个第二电极向电光结晶的注入的第二电荷注入抑制层。
另外,一个方式提供一种光观察装置,其具有:光源,其输出输入光;上述的反射型空间光调制器;光学系统,其向对象物照射从空间光调制器输出的调制光;光检测器,其检测从对象物输出的光。
另外,一个方式提供一种光照射装置,其具有:光源,其输出输入光;上述的反射型空间光调制器;光学系统,其向对象物照射从空间光调制器输出的调制光。
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