[发明专利]反射型空间光调制器、光观察装置及光照射装置

权利要求书

1.一种反射型空间光调制器，其特征在于，

是调制输入光且输出经调制的调制光的反射型空间光调制器，

具备：

钙钛矿型电光结晶，其具有所述输入光被输入的输入面和与所述输入面相对的背面，且相对介电常数为1000以上；

光输入输出部，其配置于所述电光结晶的所述输入面，且具有透射所述输入光的第一电极；

光反射部，其包含配置有多个第二电极的基板，并配置于所述电光结晶的所述背面且将所述输入光向所述光输入输出部反射；以及

驱动电路，其对所述第一电极与所述多个第二电极之间施加电场，

所述光输入输出部包含形成于所述输入面上的第一电荷注入抑制层，所述第一电荷注入抑制层通过在非导电性的粘接材料的固化物中具有电介质材料，而抑制电荷从所述第一电极向所述电光结晶的注入，

所述光反射部包含形成于所述背面上的第二电荷注入抑制层，所述第二电荷注入抑制层通过在非导电性的粘接材料的固化物中具有电介质材料，而抑制电荷从所述多个第二电极向所述电光结晶的注入。

2.根据权利要求1所述的反射型空间光调制器，其中，

所述光反射部还具备：

多个第三电极，其形成于所述第二电荷注入抑制层的所述背面的相反侧的面，且与所述多个第二电极各自对应；

多个凸点，其以所述多个第二电极与对应于所述多个第二电极的所述多个第三电极相互电连接的方式配置。

3.根据权利要求1所述的反射型空间光调制器，其中，

所述基板包含配置有所述多个第二电极的像素区域和包围所述像素区域的周边区域，

所述第二电荷注入抑制层具有与所述像素区域面对面的第一区域和包围所述第一区域的第二区域，

所述第二区域中的所述电介质材料的含有率比所述第一区域中的所述电介质材料的含有率小。

4.根据权利要求3所述的反射型空间光调制器，其中，

所述第一区域与所述第二区域的边界从所述输入光的输入方向观察与所述像素区域与所述周边区域的边界一致。

5.根据权利要求3所述的反射型空间光调制器，其中，

所述第一区域与所述第二区域的边界从所述输入光的输入方向观察位于比所述像素区域与所述周边区域的边界更靠外缘侧的位置。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的反射型空间光调制器，其中，

所述光输入输出部还具备具有所述输入光被输入的第一面和作为所述第一面的相反侧的面的第二面的透明基板，所述第一电极配置于所述透明基板的所述第二面。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的反射型空间光调制器，其中，

将所述电光结晶的相对介电常数设为ε_xtl，

将所述电光结晶中的从所述输入面到所述背面的厚度设为d_xtl，

将所述第一电荷注入抑制层及所述第二电荷注入抑制层的厚度的合计设为d_ad，

将成为由驱动电路产生的施加电压的最大电压V_smax与为了输出输入光的相位仅以2π弧度进行调制的所述调制光而施加于所述电光结晶的电压V_xtl的比的V_xtl/V_smax设为R_s时，

包含所述电介质材料的所述第一电荷注入抑制层及所述第二电荷注入抑制层的相对介电常数ε_ad通过式(1)表示，

[数1]

8.根据权利要求1～7中任一项所述的反射型空间光调制器，其中，

所述第一电极形成于所述输入面的整个面。

9.根据权利要求1所述的反射型空间光调制器，其中，

所述光反射部还包含以与所述多个第二电极相对的方式配置于所述电光结晶的所述背面的多个第四电极。