[发明专利]固持器、清洁光掩模的方法以及开关固持器的装置

说明书

本发明涉及一种固持或保护光掩模或是具有防尘薄膜的光掩模的侧边免受清洁媒介影响的固持器、清洁此类光掩模的方法以及开关固持器的装置。固持器具有：基座，具有至少三个支撑组件，设置在距离基座的底部一距离处，以固持及保持所述光掩模或具有防尘薄膜的光掩模，且具有具上部侧与下部侧的密封框，其中下部侧可安放于基座上，且其中密封框具有中心开口，其经设定大小使得中心开口可以间隔的方式容纳光掩模。周围弹性密封组件设置于密封框上，以与密封框的上部侧呈角度从中心开口的内周围延伸至中心开口，其中，在空载状态下，密封组件具有小于光掩模的外周围的内周围，且在负载状态下，密封组件周向性地在侧边缘处接触容纳于中心开口中的光掩模。

技术领域

本发明涉及一种接收以及保护光掩模或是具有防尘薄膜(pellicle)的光掩模的侧边免受清洁媒介影响的固持器、一种清洁光掩模或是具有防尘薄膜的光掩模的侧边的方法以及一种开关以上类型的固持器的装置。

背景技术

特定而言，在半导体技术领域中，已知将光掩模用于光刻工艺。为获得良好的处理结果，必须定期清洁光掩模。为保护光掩模的某些表面抵抗由粒子引起的污染，在一些情况下，使用所谓的防尘薄膜。

防尘薄膜是薄膜或是膜，其相对于待保护的光掩模的表面藉助于例如框架以间隔方式固持，框架胶合至待保护的光掩模的侧边。因此粒子不能到达光掩模的各别表面，且若存在粒子，其黏着于防尘薄膜。防尘薄膜配置在离各别屏蔽表面足够远的距离处，使得黏着于防尘薄膜的至少低于某一大小的粒子离光掩模的各别表面足够远而不损害成像工艺。

由此，可实质上减少各别表面的清洁周期。然而，仍需清洁与防尘薄膜相对的光掩模的侧边。虽然在过去，防尘薄膜以及其框架附接至光掩模的侧边，使得在框架外部屏蔽的周围边缘区域保持闲置且可用作密封表面，但现今或是将来的防尘薄膜中的一些一直延伸至光掩模的边缘或甚至可延伸超出光掩模的边缘。

在清洁与防尘薄膜相对的侧边期间，要求保护载有防尘薄膜的侧边免受正使用的清洁媒介影响。由此，可避免防尘薄膜、防尘薄膜的框架或是载有防尘薄膜的光掩模的侧边遭受损害及/或污染。此通常藉由将载有防尘薄膜的侧边的周围边缘区域设定于密封框上来实现。边缘区域经预先构造使得处于边缘区域内的防尘薄膜以及屏蔽的侧边相对于环境且尤其相对于清洁媒介而密封。对于一直到达光掩模的边缘区域以及/或甚至延伸超出光掩模的边缘区域的防尘薄膜，此将不再是可能的，此是因为在载有防尘薄膜的光掩模的侧边上不存在足够的光掩模的表面区域。此外，即使对于不具有防尘薄膜的光掩模，可能有利的是在清洁一侧边期间不接触另一侧边。

因此，需要提供一种能够相对于清洁媒介保护光掩模的一侧边(尤其载有防尘薄膜的光掩模的一侧边)而使用此清洁媒介来清洁另一侧边的替代性装置及方法。

发明内容

根据本发明，提供根据权利要求1的固持器及根据权利要求20的方法以及根据权利要求24的用于开关以上类型的固持器的特定装置。本发明的其他实施例尤其揭露于随附权利要求中。

特定而言，提供一种用于接收以及保护光掩模或是具有防尘薄膜的光掩模免受清洁媒介影响的固持器，其中固持器包括：基座，具有至少三个支撑组件，支撑组件经配置以接收以及固持从基座的底部表面隔开的光掩模或是具有防尘薄膜的光掩模；密封框，具有上部侧以及下部侧，其中下部侧可安放于基座上，且其中密封框包括中心开口，中心开口经设定大小使得其可以间隔方式接收光掩模；周围弹性密封组件，位于密封框处，其以倾斜方式朝向密封框的上部侧从中心开口的内部周围延伸至中心开口，其中在空载状态下的密封组件具有内周围，其小于光掩模的外周围，且在负载状态下的密封组件可接触光掩模，光掩模在其侧表面处以周围方式接收在中心开口中。此类固持器适用于接收光掩模亦或是具有防尘薄膜(在基座上具有面朝下的防尘薄膜)的光掩模，且接着根据上文安装密封框且经由特定密封件在侧表面处提供密封。密封框可沿相反方向移除，且因此在任何时候皆不与面向基座的光掩模的侧边及/或光掩模处的防尘薄膜接触。