[发明专利]研磨用组合物在审

专利信息
申请号: 201780072039.6 申请日: 2017-11-15
公开(公告)号: CN109996853A 公开(公告)日: 2019-07-09
发明(设计)人: 土屋公亮;浅田真希 申请(专利权)人: 福吉米株式会社
主分类号: C09K3/14 分类号: C09K3/14;B24B37/00;C09G1/02;H01L21/304
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 研磨用组合物 表面保护剂 纤维素衍生物 碱性化合物 表面缺陷 研磨 分散剂 分散性 乙烯醇 磨粒 申请
【权利要求书】:

1.一种研磨用组合物,其是包含磨粒、碱性化合物及表面保护剂的研磨用组合物,其中,

所述表面保护剂包含纤维素衍生物与乙烯醇系分散剂,

所述表面保护剂的分散性参数α低于100。

2.根据权利要求1所述的研磨用组合物,其中,所述纤维素衍生物的重均分子量为5×104以上且低于50×104

3.根据权利要求1或2所述的研磨用组合物,其中,所述乙烯醇系分散剂的重均分子量为所述纤维素衍生物的重均分子量的90%以下。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的研磨用组合物,其中,所述乙烯醇系分散剂的含量相对于所述纤维素衍生物100g为0.1g以上且80g以下。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的研磨用组合物,其中,所述纤维素衍生物与所述乙烯醇系分散剂的总计含量相对于所述磨粒100g为1.5g以上且20g以下。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的研磨用组合物,其中,所述表面保护剂还包含氧亚烷基系添加剂。

7.根据权利要求6所述的研磨用组合物,其包含重均分子量低于5000的氧亚烷基系添加剂OAL作为所述氧亚烷基系添加剂。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的研磨用组合物,其中,所述磨粒为二氧化硅颗粒。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的研磨用组合物,其用于研磨硅晶圆。

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