[发明专利]光学数据存储带及其制造装置以及跟踪伺服系统

说明书

在至少一个实施例中，提供了一种光学数据存储带。光学数据存储带包括读/写数据区域，该读/写数据区域包括用于在上面存储数据的多个可写轨，每个可写轨具有第一轨宽度。光学数据存储带还包括邻近读/写数据区域定位的接缝区域。接缝区域包括多个不可写轨，每个不可写轨包括第二轨宽度，第二轨宽度大于每个可写轨的第一轨宽度。

技术领域

本文公开的各方面一般涉及包括用于改善接缝后的跟踪性能的增加的轨间距的光学带。这些方面和其它方面将在本文中更详细地讨论。

背景技术

在光学带制造的过程中，通过从具有四个垫片(shim)部分的圆形鼓结构压印轨图案来制造光学带。两个垫片部分之间的接合区域可能在光学带上产生没有轨图案的镜面区域，该镜面区域一般被定义为接缝区域。因此，伺服系统可以在每个接缝区域之后(或在每个接缝跳跃之后)重新获取焦点和跟踪。在接缝跳跃之后的跟踪获取操作期间，伺服系统可以基于跟踪误差信号(TES)来致动光学拾取单元(OPU)，以遵循光学带上的轨间距。但是，由于在压纹鼓(embosser drum)(或鼓)的制造期间的精度限制，鼓在两个相邻垫片之间包括角度失准。两个相邻垫片之间的这种角度失准一般被定义为轨漂移(track wandering)效应。轨漂移效应可以在接缝跳跃之后造成OPU与轨间距之间的相对横向移动，并且基于带的线速度、轨漂移的角度和轨间距的宽度而产生额外的TES。因此，当线速度高于某水平时，由于轨漂移引起的TES的频率可能超过伺服系统的带宽限制。因此，轨漂移效应可能限制光学带的线速度。

发明内容

在至少一个实施例中，提供了一种光学数据存储带。光学数据存储带包括读/写数据区域，该读/写数据区域包括用于在上面存储数据的多个可写轨，每个可写轨包括第一轨宽度。光学数据存储带还包括位于读/写数据区域附近的接缝区域。接缝区域包括多个不可写轨，每个不可写轨包括第二轨宽度，该第二轨宽度大于每个可写轨的第一轨宽度。

在至少另一个实施例中，提供了一种光学数据存储带。光学数据存储带包括读/写数据区域，该读/写数据区域包括用于在上面存储数据的多个可写轨。每个可写轨包括第一轨宽度。光学数据存储带还包括位于读/写数据区域的第一侧的前接缝区域，该前接缝区域包括多个第一不可写轨，每个第一不可写轨包括第二轨宽度。光学数据存储带还包括位于读/写数据区域的第二侧的后接缝区域，该后接缝区域包括多个第二不可写轨，每个第二不可写轨包括第三轨宽度。第二轨宽度和第三轨宽度均与第一轨宽度不同。

在至少另一个实施例中，提供了一种包括压纹鼓的装置。压印鼓被配置为将纳米结构图案压印到光学数据存储带的外部上，光学数据存储带形成：(i)读/写数据区域，包括用于在上面存储数据的多个可写轨，每个可写轨包括第一轨宽度，以及(ii)位于读/写数据区域附近的接缝区域。接缝区域包括多个不可写轨，每个不可写轨包括第二轨宽度，该第二轨宽度大于每个可写轨的第一轨宽度。

附图说明

在所附权利要求中具体指出了本公开的实施例。但是，通过结合附图参考以下详细描述，各种实施例的其它特征将变得更加清楚并且将被最好地理解，其中：

图1一般性地描述了用于制造光学带的方法；

图2一般性地描绘了用于产生用于压纹或压印光学带的鼓的方法；

图3一般性地示出了多个垫片，这些垫片被卷起并彼此耦合以形成鼓；

图4一般性地描绘了形成鼓的多个垫片以及当垫片彼此耦合时形成的对应接缝；

图5一般性地图示了垫片和光学带的各种特性；

图6描绘了根据一个实施例的用于增加光学带的轨宽度的鼓；

图7一般性地图示了根据一个实施例的光学带的顶视图(或前视图)；

图8A一般性地图示了当接缝区域中的每个轨的轨宽度为320nm时在光学带的前/后接缝区域上移动的跟踪伺服系统；