[发明专利]适用于高级平面化应用的材料和旋涂方法在审

申请号：	201780036256.X	申请日：	2017-06-14
公开（公告）号：	CN109314042A	公开（公告）日：	2019-02-05
发明（设计）人：	德萨拉吉·瓦拉帕萨德;罗纳德·R·卡特桑斯;谢松元	申请（专利权）人：	霍尼韦尔国际公司
主分类号：	H01L21/02	分类号：	H01L21/02;H01L21/324
代理公司：	北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205	代理人：	杨贝贝;臧建明
地址：	美国新***	国省代码：	美国;US
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摘要：
搜索关键词：	有机基材料第二溶剂第一溶剂硅基材料沸点树脂高级平面重量比基底旋涂施用应用
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【权利要求书】：

1.一种组合物，包含：

树脂，所述树脂包含一种或多种硅基材料、一种或多种有机基材料、或硅基材料和有机基材料的组合；

至少一种第一溶剂，所述至少一种第一溶剂的沸点为140℃至250℃；以及

至少一种第二溶剂，所述至少一种第二溶剂的沸点为50℃至110℃；

其中所述第一溶剂与所述第二溶剂的重量比为1:1至1:5。

2.根据权利要求1所述的组合物，其中所述树脂包含一种或多种硅基材料，所述硅基材料由一种或多种有机烷氧基硅烷前体形成，所述有机烷氧基硅烷前体选自由以下项构成的组：原硅酸四乙酯(TEOS)、甲基三甲氧基硅烷(MTMOS)、甲基三乙氧基硅烷(MTEOS)、二甲基二乙氧基硅烷(DMDEOS)、苯基三乙氧基硅烷(PTEOS)、乙烯基三乙氧基硅烷(VTEOS)、二甲基二甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、以及它们的组合。

3.根据权利要求2所述的组合物，其中所述第一溶剂包括至少一种溶剂，所述溶剂选自由以下项构成的组：二丙二醇甲醚、三丙二醇甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、正丙氧基丙醇和碳酸丙烯酯、γ-丁内酯、乳酸乙酯和乙酯，并且其中所述第二溶剂包括选自由以下项构成的组的至少一种溶剂：丙酮、乙酸乙酯、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇和异丙醇。

4.一种将涂层施用到基底上的方法，包括：

将所述涂层以第一速度分配到所述基底上，其中所述涂层包括：

树脂，所述树脂包含一种或多种硅基材料、一种或多种有机基材料、或硅基材料和有机基材料的组合；

至少一种第一溶剂，所述至少一种第一溶剂的沸点为140℃至250℃；以及

至少一种第二溶剂，所述至少一种第二溶剂的沸点为50℃至120℃；

其中所述第一溶剂与所述第二溶剂的重量比为1:1至1:5；

以小于或等于所述第一速度的第二速度旋转所述涂层，以便所述涂层在所述基底的所述表面上涂覆并实现平坦表面；

将所述速度增加到大于所述第一速度和所述第二速度的第三速度，以便建立所需的膜厚度；以及

提供停止时间以促进流动来实现所述平坦表面。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述第一速度在100转/分钟至500转/分钟之间；所述第二速度在0转/分钟至500转/分钟之间；并且所述第三速度在1500转/分钟至5000转/分钟之间。

6.根据权利要求4所述的方法，其中所述低沸点溶剂包括至少一种溶剂，所述溶剂选自由以下项构成的组：丙酮、乙酸乙酯、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇和异丙醇。

7.根据权利要求4所述的方法，其中所述高沸点溶剂包括至少一种溶剂，所述溶剂选自由以下项构成的组：二丙二醇甲醚、三丙二醇甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、正丙氧基丙醇和碳酸丙烯酯和γ-丁内酯。