[发明专利]透光性导电膜、以及具有图案状导电层的透光性导电膜的制造方法有效
申请号: | 201780032474.6 | 申请日: | 2017-09-28 |
公开(公告)号: | CN109155167B | 公开(公告)日: | 2020-10-20 |
发明(设计)人: | 伊神俊辉;滝泽守雄;相川明弘;林秀树 | 申请(专利权)人: | 积水化学工业株式会社;积水纳米涂层科技有限公司 |
主分类号: | H01B5/14 | 分类号: | H01B5/14;C08J7/06;B32B7/02;H01B13/00;G03F7/20;G03F7/42 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 张涛 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透光 导电 以及 具有 图案 制造 方法 | ||
一种透光性导电膜,其具有:具有透光性和导电性的导电层、配置于所述导电层的一个表面侧的基材,并且,所述导电层的与所述基材侧相反的一侧的表面的表面张力为28dyn/cm以上且34dyn/cm以下。
技术领域
本发明的一个实施方式涉及具有透光性和导电性的透光性导电膜。本发明的另一个实施方式涉及使用了所述透光性导电膜且具有图案状导电层的透光性导电膜的制造方法。
背景技术
近年来,触摸板型液晶显示装置广泛用于诸如智能电话、移动电话、笔记本电脑、平板电脑、复印机或汽车导航系统之类的电子设备中。在这种液晶显示装置中,使用基材上叠层有透明导电层的透光性导电膜。
通常在通过蚀刻处理使具有透光性和导电性的导电层图进行案化之后,再使其搭载于触摸板上。如上所述进行操作,在导电层进行了图案化的透光性导电膜中,存在透光性导电膜的表面上的导电层的图案为可辨识的问题。
此外,目前,在框架布线部中,通过印刷银糊剂等方法来形成布线。因此,需要导电层与银糊剂的密合性。作为提高密合性的手段,公开了对无定形透明导电性薄膜的表面张力进行了调整的透明导电膜等(专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2000-243146号公报
发明内容
发明要解决的技术问题
另一方面,近年来,为了提高检测灵敏度,不仅同时使用图案电极和布线,或者将导电层用作图案电极以实现高密度化及布线微型化,还在框架布线部,将导电层用作与图案电极连接的布线。
在这种情况下,形成图案电极和布线图案的方法也在发生改变。目前,主流是,使用液体抗蚀剂通过丝网印刷来形成抗蚀层,然后进行蚀刻处理的方法。然而,近年来正在变为,将干膜抗蚀剂粘附到导电层上,然后在曝光和显影之后进行蚀刻处理的方法。
然而,在通过使用干膜抗蚀剂进行的蚀刻处理方法而形成的图案电极及布线中,导电层断裂,或导电层的边缘部分过度切削,从而容易发生故障、响应性差、图案可见等问题。
本发明人发现,这些问题起因于,干膜抗蚀剂与导电层表面的密合性。
因此,本发明的目的之一在于,提供一种透光性导电膜,其能够提高干膜抗蚀剂等部件与导电层表面的密合性。本发明的另一个目的在于,提供一种使用了所述透光性导电膜且具有图案状导电层的透光性导电膜的制造方法。
解决技术问题的技术手段
在本发明的一个实施方式中,提供了一种透光性导电膜,其具有:具有透光性和导电性的导电层、配置于所述导电层的一个表面侧的基材,并且,所述导电层的与所述基材侧相反的一侧的表面的表面张力为28dyn/cm以上且34dyn/cm以下。
在本发明的一个实施方式中,在所述导电层的与所述基材侧相反的一侧的表面的70μm×90μm的视野中的算术平均高度Sa为0.5nm以上且20nm以下,在所述导电层的与所述基材侧相反的一侧的表面的1.0μm×1.0μm的范围中的算术平均粗糙度Ra为2.0nm以上且15nm以下。
在本发明的一个实施方式中,所述导电层是发生了结晶化的导电层。
在本发明的一个实施方式中,所述的透光性导电膜通过使干膜抗蚀剂与所述导电层的外侧的表面接触来使用。
在本发明的另一个实施方式中,提供了一种具有图案状导电层的透光性导电膜的制造方法,该方法包括以下工序:使干膜抗蚀剂与所述透光性导电膜的所述导电层的与所述基材侧相反的一侧的表面接触的工序;将所述导电层制成图案状的导电层的工序;以及剥离所述干膜抗蚀剂的工序。
发明的效果
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