[发明专利]用于在真空腔室内运输载体的设备及用于在真空腔室内运输载体的方法在审
申请号: | 201780030505.4 | 申请日: | 2017-08-25 |
公开(公告)号: | CN109716499A | 公开(公告)日: | 2019-05-03 |
发明(设计)人: | 奥利弗·海姆尔;克里斯蒂安·沃尔夫冈·埃曼;拉尔夫·林登贝格 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L21/683;C23C14/56;C23C14/50 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 路径切换 室内运输 真空腔 运输路径 运输载体 第一运输系统 机械接触 载体保持 真空腔室 非接触 上移动 运输 | ||
1.一种用于在真空腔室(101)内运输载体(10)的设备(100),包含:
第一运输系统(112),所述第一运输系统(112)经构造以在运输方向(T)上沿着第一运输路径(T1)非接触地运输所述载体;及
路径切换组件(150),包含载体保持部(151),所述载体保持部(151)经构造以机械接触所述载体(10),以用于在路径切换方向(S)上将所述载体移动远离所述第一运输路径(T1)。
2.根据权利要求1所述的设备,更包含第二运输系统(114),所述第二运输系统(114)经构造以沿着从所述第一运输路径(T1)水平偏移的第二运输路径(T2)非接触地运输所述载体,其中所述载体保持部(151)在所述路径切换方向(S)上是可移动的,以用于将所述载体从所述第一运输路径(T1)转移至所述第二运输路径(T2)和处理位置(T3)中的至少一者,所述处理位置(T3)从所述第一运输路径与所述第二运输路径水平偏移。
3.根据权利要求1或2所述的设备,其中所述载体保持部(151)在垂直方向(V)上是可移动的。
4.根据权利要求1-3任一项所述的设备,其中所述载体保持部(151)包含以下安装件中的至少一者:经构造以与所述载体的侧表面接合的安装件、经构造以与所述载体的顶表面接合的安装件、和经构造以与所述载体的内表面接合的安装件。
5.根据权利要求1-4任一项所述的设备,其中所述载体保持部(151)包含支撑表面,以用于从下方支撑所述载体。
6.根据权利要求1-5任一项所述的设备,其中所述载体保持部(151)包含磁性卡盘。
7.根据权利要求1-6任一项所述的设备,其中所述载体保持部(151)包含机械安装件,特别是用于将所述载体悬挂在所述载体保持部的挂钩。
8.根据权利要求1-7任一项所述的设备,其中所述第一运输系统(112)包含下轨道区(121)、上轨道区(122)和致动器(125),所述致动器(125)经构造以调整所述下轨道区(121)和所述上轨道区(122)之间的距离。
9.根据权利要求1-7任一项所述的设备,其中所述第一运输系统(112)包含具有载体支撑件的下轨道区(121),所述载体支撑件是垂直可移动的,以用于将所述载体下降至所述载体保持部(151)上。
10.根据权利要求1-9任一项所述的设备,其中所述路径切换组件(150)更包含上保持装置(154),所述上保持装置(154)经构造用于保持和/或稳定所述载体(10)的上部,所述上保持装置(154)在所述路径切换方向(S)上是可移动的。
11.根据权利要求10所述的设备,其中所述上保持装置(154)包含至少一个磁铁单元,以用于在所述载体的所述上部上施加相斥磁力。
12.一种用于在真空腔室内运输载体(10)的设备,包含:
第一磁悬浮系统,所述第一磁悬浮系统在运输方向(T)上沿着第一运输路径(T1)而设置;及
路径切换组件(150),包含载体保持部(151),所述载体保持部(151)在路径切换方向(S)上是可移动的,且所述载体保持部(151)包含载体接触部。
13.一种用于真空处理基板的系统,包含:
真空腔室(101);
根据权利要求1-12任一项所述的设备(100);及
一个或多个处理工具(105),所述一个或多个处理工具(105)布置在所述真空腔室(101)中,并从由以下项所组成的群组中选择:沉积源、蒸发源、溅射源、表面处理工具、加热装置、清洁装置、蚀刻工具及上述项的组合。
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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