[发明专利]用于化学抛光的系统、装置和方法

权利要求书

1.一种流体网络平板组件，包括：

垫，所述垫具有多个流体开口；

多个流体通道的网络，每个通道与至少一个流体开口流体地连通；

多个入口，每个入口耦合至不同的流体通道；以及

出口，所述出口耦合至未耦合至入口的所述流体通道中的一个。

2.如权利要求1所述的流体网络平板组件，其中，所述多个流体通道的所述网络由多个平板形成，每个平板具有对齐的通道的阵列。

3.如权利要求1所述的流体网络平板组件，其中，以圆形图案设置所述多个流体开口，所述圆形图案具有大于待处理的基板的直径。

4.如权利要求1所述的流体网络平板组件，其中，所述多个入口包含用于第一化学通道的第一入口、用于第二化学通道的第二入口、以及用于漂洗通道的第三入口。

5.如权利要求1所述的流体网络平板组件，其中，所述出口耦合至流体泵并且可操作以用作排水口。

6.如权利要求1所述的流体网络平板组件，进一步包含用于耦合所述流体网络平板组件至轨道致动器的安装盘。

7.如权利要求1所述的流体网络平板组件，其中，所述多个流体通道的至少一些流体通道包含可移除管状插件。

8.一种用于抛光基板的化学抛光系统，所述系统包括：

抛光头；

轨道致动器；以及

流体网络平板组件，所述流体网络平板组件耦合至所述轨道致动器并且被设置在所述抛光头下方，其中，所述流体网络平板组件包含：垫，所述垫具有多个流体开口；多个流体通道的网络，每个通道与至少一个流体开口流体地连通；多个入口，每个入口耦合至不同的流体通道；以及出口，所述出口耦合至未耦合至入口的所述流体通道中的一个。

9.如权利要求8所述的化学抛光系统，其中，所述多个流体通道的所述网络由多个平板形成，每个平板具有对齐的通道的阵列。

10.如权利要求8所述的化学抛光系统，其中，以圆形图案设置所述多个流体开口，所述圆形图案具有大于待处理的基板的直径。

11.如权利要求8所述的化学抛光系统，其中，所述多个入口包含用于第一化学通道的第一入口、用于第二化学通道的第二入口、以及用于漂洗通道的第三入口。

12.如权利要求8所述的化学抛光系统，其中，所述出口耦合至流体泵并且可操作以用作排水口。

13.如权利要求8所述的化学抛光系统，进一步包含用于耦合所述流体网络平板组件至轨道致动器的安装盘。

14.如权利要求8所述的化学抛光系统，其中，所述多个流体通道的至少一些流体通道包含可移除管状插件。

15.一种抛光基板的方法，所述方法包括以下步骤：

提供化学抛光系统，包含流体网络平板组件，所述流体网络平板组件具有多个流体通道的网络，每个通道与垫中的至少一个流体开口流体地连通，所述垫耦合至所述流体网络平板组件；

提供多个入口，每个入口耦合至不同的流体通道；

旋转基板接近所述流体网络平板组件；

使所述流体网络平板组件进行依轨道运转，其中，所述流体网络平板组件的中央从所述基板的中央偏离；

经由所述流体网络平板组件将所述基板暴露至第一化学溶液的薄膜持续预先定义的时间量；

经由所述流体网络平板组件使用去离子水的第一薄膜漂洗该基板；

经由所述流体网络平板组件将所述基板暴露至第二化学溶液的薄膜持续预先定义的时间量；

经由所述流体网络平板组件使用去离子水的第二薄膜漂洗所述基板；以及

重复所述暴露和所述漂洗，直至达到终点。