[实用新型]一种基于真空镀膜机的同一水平面内外筒结合结构

说明书

本实用新型公开了一种基于真空镀膜机的同一水平面内外筒结合结构，包括外筒和内筒，内筒安装在外筒的空腔内；所述内筒的顶部浇筑有密封口；密封口上套接有密封圈A和法兰A；所述内筒顶部的密封口嵌装在外筒的密封槽内，且密封口与密封槽之间通过法兰A和法兰B连接固定；所述外筒的上端面还压盖有上盖，外筒的一侧插接有加气管，另一侧设置有抽气口。通过将真空镀膜机的外筒和内筒结合在一个水平面，使得反应气体通过加气管进入到抽气口，都能从镀膜区内通过，实现反应气体在镀膜区内均匀分布，使加热温度上下一致，保证了镀件加热温度均匀性，同时，也使得蒸发源产生的离子受到镀膜区几何形状一致的约束，达到离子均匀一致。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜机设备技术领域，具体为一种基于真空镀膜机的同一水平面内外筒结合结构。

背景技术

为提高生产效率及镀制较大件，需要将真空镀膜机内径尺寸做的较大，同时带来镀膜机的内腔体积较大，为满足镀膜工艺要求，降低生产成本，保证真空机组正常工作的前提下，要求内空体积尽量小，采用在镀膜机的内腔附加一个内筒4的方法来实现。以往的内筒4为一个独立封闭的筒体，如图4所示，加气后，必然有一部分反应气体没经过镀膜区6，而通过内筒4上部直接进入抽气口5抽走，造成反应气体分布在镀膜区6分布不均，而这种分布不均人为无法控制。

由于内筒4上部与上盖3有一定空间，加热时上部热量会产生分散，形成上下温度不均；镀膜时蒸发源产生的离子由于内筒4上部有空间，上部离子会比下部离子分散。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种基于真空镀膜机的同一水平面内外筒结合结构，实现反应气体分布均匀、镀件加热温度均匀、离子均匀一致，达到镀膜颜色的一致，解决了现有技术中的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种基于真空镀膜机的同一水平面内外筒结合结构，包括外筒和内筒，内筒安装在外筒的空腔内；所述内筒的底部与外筒的底部平齐，内筒的顶部浇筑有密封口；所述密封口上套接有密封圈A和法兰A；所述外筒的顶部与内筒顶部的连接处加工有密封槽，密封槽的内端口连接有法兰B，密封槽的外端口套接有密封圈B；所述内筒顶部的密封口嵌装在外筒的密封槽内，且密封口与密封槽之间通过法兰A

和法兰B连接固定；所述密封口与密封槽连接处还填充有密封圈A进行密封；所述外筒的上端面还压盖有上盖，上盖的下端面设置有与外筒的密封槽相匹配的槽口，槽口盖合在密封槽的上方，并通过密封圈B进行密封；所述上盖的边缘处通过法兰连接件固定在外筒的边缘处；所述外筒的一侧还插接有加气管，外筒的另一侧设置有抽气口。

优选的，所述内筒顶部的密封口与外筒顶部的密封槽处在同一个水平面上。

优选的，所述内筒与外筒空腔内的间隙为镀膜区，镀膜区通过密封口与密封槽以及槽口实现密封。

优选的，所述加气管和抽气口均与外筒的内腔相互贯通。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：

本基于真空镀膜机的同一水平面内外筒结合结构，将真空镀膜机的外筒和内筒结合在一个水平面，内筒上部为加工有带有法兰A的密封口，与上部带有法兰B的密封槽的外筒处在一个水平面，外筒通过密封槽上的密封圈B与上盖实现镀膜区的密封，使得反应气体通过加气管进入到抽气口，都能从镀膜区内通过，实现反应气体在镀膜区内均匀分布，镀膜区上下几何形状一样，使加热温度上下一致，保证了镀件加热温度均匀性，同时，也使得蒸发源产生的离子受到镀膜区几何形状一致的约束，达到离子均匀一致。

附图说明

图1为本实用新型的整体结构示意图；

图2为本实用新型的内筒结构示意图；

图3为本实用新型的外筒结构示意图；

图4为现有技术结构示意图。