[实用新型]一种解决原硅片表面脏污的装置

说明书

本实用新型公开了一种解决原硅片表面脏污的装置，包括第一支撑架，第一支撑架的上表面设有第一皮带输送机，第一皮带输送机与水平面呈3‑5度角设置，第一皮带输送机的上表面前后两侧设有两个前后对称设置的第一护板，第一护板的外侧面设有第一托板，第一托板的上表面设有第二支撑杆，第二支撑杆的外侧面上端设有喷管，喷管的外侧面下端设有垂直向下设置的喷头，本解决原硅片表面脏污的装置，结构简单，操作方便，使用时占用空间小，可以快速对原硅片进行清洗，废液收集箱可以对清洗液进行收集，通过硅胶定位块可以将原硅片固定在第一皮带输送机上，灰尘过滤网可以将空气中的灰尘清除，通过热风机可以对硅胶片进行干燥处理。

技术领域

本实用新型涉及电池生产设备技术领域，具体为一种解决原硅片表面脏污的装置。

背景技术

在电池片生产前原硅片片源存在有脏污附着在硅片表面无法去除，造成制成电池片后外观不良。现有原硅片物理清洗有三种。刷洗或擦洗:可除去颗粒污染和大多数粘在原硅片上的薄膜。高压清洗：是用液体喷射原硅片表面，喷嘴的压力高达几百个大气压。超声波清洗：超声波声能传入溶液,靠气蚀作用洗掉原硅片上的污染。但是,现有原硅片清洗设备在清洗原硅片的过程中往往会划伤原硅片，从而导致原硅片的外侧面产生划痕和损伤。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是克服现有的缺陷，提供种解决原硅片表面脏污的装置，可以快速对原硅片进行清洗，给原硅片的清洗以及使用带来了便利，而且在对原硅片的清洗过程中不会划伤原硅片，进一步提升了原硅片的清洗效率，可以有效解决背景技术中的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种解决原硅片表面脏污的装置，包括第一支撑架，所述第一支撑架的上表面设有第一皮带输送机，第一皮带输送机与水平面呈3-5度角设置，第一皮带输送机的上表面前后两侧设有两个前后对称设置的第一护板，第一护板的外侧面设有第一托板，第一托板的上表面设有第二支撑杆，第二支撑杆的外侧面上端设有喷管，喷管的外侧面下端设有垂直向下设置的喷头，第一皮带输送机的下方设有清洗液储液箱，清洗液储液箱的上表面设有液泵，液泵的出液口通过引流管与喷管的上表面相连，第一皮带输送机的右下方设有第二皮带输送机，第二皮带输送机的下表面设有第二支撑架，第二皮带输送机的前后两侧面设有两个前后对称设置的第二护板，第二护板的外侧面设有第二托板，第二托板上表面设有第二支撑杆，第二支撑杆的外侧面设有热风机，热风机的外侧面下端设有垂直向下设置的锥形排风管，第二皮带输送机的后侧设有过滤箱，热风机的进风口通过引风管与过滤箱的上表面相连，过滤箱的上表面设有单片机，单片机的输入端与外部电源的输出端电连接，单片机的输出端分别与液泵、热风机、第二皮带输送机和第一皮带输送机的输入端电连接。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述第一皮带输送机的上表面设有硅胶定位块，硅胶定位块的上表面设有硅片卡槽。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述清洗液储液箱的前侧面设有液位观察窗口，清洗液储液箱的后侧面设有进液管。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述第一皮带输送机的左下方设有废液收集箱，废液收集箱的右侧面上端设有导流槽。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述过滤箱的内部设有灰尘过滤网，过滤箱的后侧面设有进气管。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本解决原硅片表面脏污的装置，结构简单，操作方便，使用时占用空间小，可以快速对原硅片进行清洗，废液收集箱可以对清洗液进行收集，通过硅胶定位块可以将原硅片固定在第一皮带输送机上，灰尘过滤网可以将空气中的灰尘清除，通过热风机可以对硅胶片进行干燥处理。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型结构主视图；

图3为本实用新型结构俯视图。