[实用新型]一种解决原硅片表面脏污的装置

权利要求书

1.一种解决原硅片表面脏污的装置，包括第一支撑架(3)，其特征在于：所述第一支撑架(3)的上表面设有第一皮带输送机(17)，第一皮带输送机(17)与水平面呈3-5度角设置，第一皮带输送机(17)的上表面前后两侧设有两个前后对称设置的第一护板(24)，第一护板(24)的外侧面设有第一托板(20)，第一托板(20)的上表面设有第二支撑杆(5)，第二支撑杆(5)的外侧面上端设有喷管(15)，喷管(15)的外侧面下端设有垂直向下设置的喷头，第一皮带输送机(17)的下方设有清洗液储液箱(2)，清洗液储液箱(2)的上表面设有液泵(1)，液泵(1)的出液口通过引流管(14)与喷管(15)的上表面相连，第一皮带输送机(17)的右下方设有第二皮带输送机(8)，第二皮带输送机(8)的下表面设有第二支撑架(6)，第二皮带输送机(8)的前后两侧面设有两个前后对称设置的第二护板(7)，第二护板(7)的外侧面设有第二托板(4)，第二托板(4)上表面设有第二支撑杆(5)，第二支撑杆(5)的外侧面设有热风机(9)，热风机(9)的外侧面下端设有垂直向下设置的锥形排风管(10)，第二皮带输送机(8)的后侧设有过滤箱(13)，热风机(9)的进风口通过引风管(11)与过滤箱(13)的上表面相连，过滤箱(13)的上表面设有单片机(25)，单片机(25)的输入端与外部电源的输出端电连接，单片机(25)的输出端分别与液泵(1)、热风机(9)、第二皮带输送机(8)和第一皮带输送机(17)的输入端电连接。

2.根据权利要求1所述的一种解决原硅片表面脏污的装置，其特征在于：所述第一皮带输送机(17)的上表面设有硅胶定位块(18)，硅胶定位块(18)的上表面设有硅片卡槽。

3.根据权利要求1所述的一种解决原硅片表面脏污的装置，其特征在于：所述清洗液储液箱(2)的前侧面设有液位观察窗口(23)，清洗液储液箱(2)的后侧面设有进液管。

4.根据权利要求1所述的一种解决原硅片表面脏污的装置，其特征在于：所述第一皮带输送机(17)的左下方设有废液收集箱(19)，废液收集箱(19)的右侧面上端设有导流槽(22)。

5.根据权利要求1所述的一种解决原硅片表面脏污的装置，其特征在于：所述过滤箱(13)的内部设有灰尘过滤网(12)，过滤箱(13)的后侧面设有进气管(21)。