[实用新型]一种控制光刻胶溅射的涂胶机系统有效
| 申请号： | 201721591639.7 | 申请日： | 2017-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN207488701U | 公开（公告）日： | 2018-06-12 |
| 发明（设计）人： | 孙丞;李青民 | 申请（专利权）人： | 西安立芯光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;H01L21/67 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 胡乐 |
| 地址： | 710077 陕西省西安*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 涂胶机 溅射 光刻胶 腔体 控制光 本实用新型 抽气系统 晶圆 内腔 侧壁顶端 产品良率 导流护板 顶端中心 方向设置 光刻工艺 晶圆表面 气流导向 涂胶工艺 整体形成 载片台 侧壁 竖直 甩出 向内 延展 下行 | ||
【权利要求书】：
1.一种控制光刻胶溅射的涂胶机系统，包括涂胶机腔体和设置于涂胶机内腔的载片台以及晶圆；其特征在于：涂胶机腔体的竖直方向设置有抽气系统，涂胶机内腔的侧壁在高度方向上对应于晶圆及其以上的区域向内倾斜，使得光刻胶微粒溅射的主要方向改为向下溅射，涂胶机腔体的侧壁顶端向腔体轴心延展形成导流护板，整体形成从顶端中心向两侧下行的气流导向，使得从晶圆表面甩出的光刻胶微粒被抽气系统带走。
2.根据权利要求1所述的控制光刻胶溅射的涂胶机系统，其特征在于：所述抽气系统包括设置于涂胶机腔体底部的抽气装置和设置于涂胶机腔体上方的进气装置，产生自上而下的气流，以迅速抽走含有光刻胶微粒的空气。
3.根据权利要求1所述的控制光刻胶溅射的涂胶机系统，其特征在于：所述向内倾斜的倾斜角度为45度至60度。
4.根据权利要求1所述的控制光刻胶溅射的涂胶机系统，其特征在于：所述导流护板的内径比晶圆大30mm～50mm。
5.根据权利要求2所述的控制光刻胶溅射的涂胶机系统，其特征在于：涂胶机内腔靠近底面设置有导流板，导流板一端接设置于涂胶机腔体底部的抽气孔，另一端向涂胶机内腔侧壁方向水平延伸，形成涂胶机内腔下部的风道。
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