[实用新型]一种新型淋洗塔结构

说明书

本实用新型属于多晶硅生产设备技术领域,具体的说是涉及一种新型淋洗塔结构,主要是为了提供一种新型结构的淋洗塔，不但可以在多晶硅的生产过程中对生产废气进行大面积喷液量的彻底喷淋，保证淋洗塔的喷淋效果，消除淋洗塔清洗池内的污染泡沫,该淋洗塔包括淋洗塔本体,在淋洗塔本体的内部上方设置有喷淋管道,在喷淋管道的下方分别设置有上固定架和下固定架,在上固定架和下固定架之间连接固定有喷淋头,喷淋头直接与喷淋管道相连通，在淋洗塔本体的下方还设置有清洗池，在清洗池上设置有多个相互对称布置的固定架，在固定架上均设置有除沫装置,该淋洗塔有效的保证了淋洗塔的喷淋效果，同时有效的保证了多晶硅生产过中的污染物排放指标。

技术领域

本实用新型属于多晶硅生产设备技术领域；具体的说是涉及一种新型淋洗塔结构。

背景技术

多晶硅属于单质硅的一种形态；其在高温熔融状态下，具有较大的化学活泼性，能与几乎任何材料作用；具有半导体性质，是极为重要的优良半导体材料；多晶硅又是生产单晶硅的直接原料，是当代人工智能、自动控制、信息处理、光电转换等半导体器件的电子信息基础材料；多晶硅的生产技术主要为改良西门子法和硅烷法，西门子法则主要通过气相沉积的方式生产柱状多晶硅，然而在生产多晶硅的生产工艺中， 淋洗塔是处理尾气的,它放出的废水含有氯硅烷与水的反应生成物,是酸性的废水；然而在进行淋洗塔喷淋的工艺过程中，喷淋液体的流量对于喷淋效果有很大的影响，现在使用的喷淋塔大多存在着出液量小、出液面积小的，且容易造成管路堵塞的技术问题；同时经过喷淋塔喷淋后的废水在清洗池内，会产生较多的污染气体产生的泡沫，这些含有污染物的泡沫漂浮在废水池内，对周边的生产环境产生了极大的污染和刺激性气味，如果不及时处理，对工人的生产健康安全都会产生极大的影响。

发明内容

本实用新型的发明目的：

主要是为了提供一种新型结构的淋洗塔，不但可以在多晶硅的生产过程中对生产废气进行大面积喷液量的彻底喷淋，有效的保证淋洗塔的喷淋效果，同时有效的消除淋洗塔清洗池内的漂浮污染泡沫，有效的保证工厂周边的工作环境和劳动工人的劳动健康安全，同时有效的保证了多晶硅生产过中的污染物排放指标，减轻了对周边环境的污染，有效的提高了企业的经济效益。

本实用新型的技术方案为：

提供了一种新型淋洗塔结构,包括淋洗塔本体,在淋洗塔本体的内部上方设置有喷淋管道,在喷淋管道的下方分别设置有上固定架和下固定架,在上固定架和下固定架之间连接固定有喷淋头,喷淋头直接与喷淋管道相连通，该喷淋头包括喷头本体, 在该喷头本体的内部分别依次设置有进水段、过渡段和喷淋段，其中进水段采用倒梯形弧面设计，喷淋段的截面结构呈空间扇形弧面，且该空间扇形弧面的截面尺寸小于喷头本体截面尺寸的四分之一，在喷头本体的喷淋段位置处上设置有菱形平面，菱形平面上设置有沉头螺纹孔，在喷头本体的上端部设置有连接螺纹,在上固定架上设置有与连接螺纹相套接匹配的定位孔一，在下固定架上设置有与沉头螺纹孔相匹配的定位孔二；在连接螺纹上设置有定位螺母，沉头螺钉通过定位孔二与沉头螺纹孔相连接；在淋洗塔本体的下方还设置有清洗池，在清洗池上设置有多个相互对称布置的固定架，在固定架上均设置有除沫装置。

该除沫装置主要由混容器本体和在混容器本体下部设置的喷射头组成，在混溶器本体的侧边部设置有进水口，在进水口上部开设有与进水口相垂直的加药口，在加药口内设置有加药管道，加药管道深入进水口内部，在混溶器本体内部设置有涡流架体，涡流架体内部设置有内筒，在涡流架体上沿垂直方向开设有多个相互对称的涡流进水孔道和涡流出水孔道，涡流进水孔道和涡流出水孔道与内筒相连通；在混溶器本体的上端部设置有进气口，在混溶器本体的下端部设置有出水口。

在涡流架体上设置的涡流进水孔道在每一平面上设置为4个,且其与水平面呈45°相互对称设置；涡流进水孔道沿内筒的切线方向与内筒相连通。

在涡流架体上设置的涡流出水孔道在每一平面上设置为4个,且其与水平面呈45°相互对称设置；涡流出水孔道沿内筒的切线方向与内筒相连通。