[实用新型]烤盘及煎烤机

说明书

本申请提供烤盘及煎烤机，以改善加工食材的形貌缺陷。其中，所述烤盘(20)包括底壁(21)与沿所述底壁(21)周缘向上延伸的侧壁(23)。所述底壁(21)的至少部分区域至所述侧壁(23)的上端面(S)的距离为H，26mm≤H≤45mm。所述煎烤机(100)包括如前面所述的烤盘(20)。

技术领域

本申请涉及生活电器领域，尤其涉及烤盘及煎烤机。

背景技术

已存在一些兼具“煎”与“烤”功能的煎烤机。但是，利用上述煎烤机制得的食材常出现形貌不佳的缺陷，尤其是食材体积较大时。

实用新型内容

本实用新型的发明人发现，上述缺陷产生的原因在于：利用煎烤机制作食材，尤其是烘烤食材时，食材受热膨胀的程度较大，而烤盘的深度又往往不够，导致食材遭受挤压、不能呈现正常的形貌。

本实用新型提供一种可有效改善上述食材形貌缺陷的烤盘及煎烤机。

根据本实用新型的第一方面，提供一种烤盘。所述烤盘包括底壁与沿所述底壁周缘向上延伸的侧壁，所述底壁的至少部分区域至所述侧壁的上端面的距离为H，26mm≤H≤45mm。

可选的，26mm≤H≤35mm。

可选的，26mm≤H＜29mm，或者29mm≤H＜32mm，或者32mm≤H≤35mm。

可选的，所述底壁的上表面为平面，所述底壁上各区域至所述侧壁的上端面的距离相等。

可选的，所述侧壁的顶端向外延伸形成一环形的外沿。

可选的，所述外沿的上表面为平面，且与所述底壁的上表面平行。

可选的，所述底壁的上表面为中央高边缘低的倾斜面。

可选的，所述烤盘为单面烤盘或双面烤盘。

根据本实用新型的第二方面，提供一种煎烤机。所述煎烤机包括如前面所述的烤盘。

在上述烤盘及煎烤机中，烤盘底壁至少部分区域至烤盘侧壁上端面的距离H在26mm(含)到45mm(含)之间，其大于常规烤盘的对应参数。该距离H的增加，可有效避免食材遭受挤压，有利于食材保持良好的形貌。

附图说明

图1是本实用新型一示例性实施例煎烤机的结构视图。

具体实施方式

这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本申请相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本申请的一些方面相一致的装置的例子。

在本申请使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本申请。除非另作定义，本申请使用的技术术语或者科学术语应当为本实用新型所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本申请说明书以及权利要求书中使用的“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“包括”或者“包含”等类似词语意指出现在“包括”或者“包含”前面的元件或者物件涵盖出现在“包括”或者“包含”后面列举的元件或者物件及其等同，并不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而且可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。在本申请说明书和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。还应当理解，本文中使用的术语“和/或”是指并包含一个或多个相关联的列出项目的任何或所有可能组合。