[实用新型]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，

具备：

载置部，供载置基板；

腔室，将载置在所述载置部上的所述基板的周围覆盖，并且形成有用于搬入所述基板的搬入口；

搬运机械手，具有支撑所述基板的手部，将由所述手部支撑的所述基板经由所述搬入口搬入至所述腔室内；以及

电离器，向从所述搬入口的外侧朝向所述腔室内的方向喷射离子化的气体。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述电离器向由所述手部支撑的所述基板以及随后由所述载置部载置的所述基板持续喷射所述离子化的气体。

3.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述搬入口也兼作由所述搬运机械手将所述基板搬出至所述腔室外的搬出口，

所述电离器在从所述载置部搬出所述基板时，也向由所述手部支撑的所述基板喷射所述离子化的气体。

4.如权利要求1～3中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

所述载置部具有对被载置的所述基板进行加热的加热板。

5.如权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述载置部具有对被载置的所述基板进行冷却的冷却板。