[实用新型]一种液体溢流保护系统有效
申请号: | 201720854711.4 | 申请日: | 2017-07-14 |
公开(公告)号: | CN207217477U | 公开(公告)日: | 2018-04-10 |
发明(设计)人: | 邵玉林 | 申请(专利权)人: | 无锡琨圣科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L31/18 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 | 代理人: | 汤东凤 |
地址: | 214000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 液体 溢流 保护 系统 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种液体溢流保护系统领域,特别涉及一种液体溢流保护系统。
背景技术
制绒清洗机主要用于太阳能电池生产线上硅片扩散前硅片表面的油类分子、金属 杂质、机械损伤层的去除及金字塔绒面制作,它提供了一条集清洗、腐蚀、干燥为一体的全自动综合清洗工艺线。其中在硅片的清洗和腐蚀过程中,硅片在机械手的作用下泡入浸洗槽,形成溢流,造成药液流失,且药液通常含有腐蚀性物质,故对于液体溢流的适当处理亟待解决。
实用新型内容
为了克服上述现有技术的不足,本实用新型提供了一种液体溢流保护系统,使药液成分均匀且节约辅助剂用量。
为达到上述目的,本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种液体溢流保护系统,包括溢流槽和浸洗槽,所述浸洗槽套合于溢流槽,所述浸洗槽的槽口为锯齿边,所述溢流槽的上部设有朝向浸洗槽的辅助剂进液管、进水管和循环进液管,所述浸洗槽的底部设有出液口,所述溢流槽的底部连接回流收集装置,所述回流收集装置连接循环用液装置,所述循环用液装置连接循环进液管。
作为优选,所述循环进液管的管口朝下。
作为优选,所述溢流槽和浸洗槽底面间距不大于3cm。
作为优选,所述溢流槽和浸洗槽的同侧外壁间距不大于4cm。
由于上述技术方案的运用,本实用新型与现有技术相比具有下列有益效果:设置套合式槽体,使溢流由浸洗槽进入溢流槽,使两槽内外液体实现交换,使药液中成分更为均匀,避免溢流直接损失的浪费,保护制绒清洗机机身,且对于溢流进一步的回收使用,减少生产成本。
附图说明
图1是本实施例的立体图。
图2是本实施例的结构示意图。
图中:1、溢流槽;2、浸洗槽;3、辅助剂进管;4、进水管;5、循环进液管;6、出液口;7、回流收集装置;8、循环用液装置。
具体实施方式
下面结合具体实施例,对本实用新型的内容做进一步的详细说明:
如图1所示,本实用新型是用于制绒清洗机中硅片表面药物处理的液体溢流保护系统,包括溢流槽1和浸洗槽2,浸洗槽2套合于溢流槽1,浸洗槽2的槽口为锯齿边,溢流槽1的上部设有朝向浸洗槽2的辅助剂进液管3、进水管4和循环进液管5,浸洗槽2的底部设有出液口6。
结合图1和图2,溢流槽1的底部连接回流收集装置7,回流收集装置7连接循环用液装置8,循环用液装置8连接循环进液管5,循环进液管5的管口朝下,溢流槽1和浸洗槽2底面间距不大于3cm,溢流槽1和浸洗槽2的同侧外壁间距不大于4cm。
本实用新型的增益效果有:
1.设置套合式槽体,使溢流由浸洗槽2进入溢流槽1,使两槽内外液体实现交换,使药液中成分更为均匀;
2.杜绝了药液溢流对于机体内部的腐蚀和破坏;
3.避免溢流直接损失的浪费,且对于溢流进一步的回收使用,减少生产成本。
上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并加以实施,并不能以此限制本实用新型的保护范围,凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本实用新型的保护范围内。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造