[实用新型]用于晶圆切割的抗静电系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其是涉及一种用于晶圆切割的抗静电系统。

背景技术

静电在自然环境中广泛存在，在生产环境和作业过程中也极易产生，然而在晶圆加工过程，在生产环境内存在静电，静电会对晶圆表面的线路产生破坏，导致晶圆加工的质量下降，不良品率高。

发明内容

本实用新型的主要目的是提供一种提高晶圆加工质量的用于晶圆切割的抗静电系统。

为实现上述的主要目的，本实用新型提供的用于晶圆切割的抗静电系统包括切割机，切割机内设置有喷雾装置，喷雾装置包括第一喷嘴与第二喷嘴，第一喷嘴包括喷嘴固定块，喷嘴固定块的侧壁上设有出水口与第一出气口，喷嘴固定块内设置有喷水套筒，喷水套筒均与出水口、第一出气口连通，喷嘴固定块连接喷嘴固定套，喷嘴固定套的第一端内固定有喷嘴头，喷嘴固定套的第二端内固定有连接套，连接套连接喷水套筒，喷水套筒、连接套与喷嘴头相互连通，第一喷嘴的第一端设有喷雾口；第一出气口连接第一出气管，出水口连接出水管，第二喷嘴的侧壁上设置有第二出气口，第二喷嘴远离第二出气口的一侧设有喷气口，喷气口与第二出气口连通，第二出气口连接第二出气管，第一出气管、第二出气管与出水管均与气液分离管连接；

抗静电装置，抗静电装置连接喷雾装置，抗静电装置包括进气端、出水端以及过滤箱，过滤箱均与进气端、出水端连接，进气端包括进气管，进气管连接调压阀、气压表，过滤箱内靠近进气端设置有薄膜，过滤箱的侧壁上设有第一开口、第二开口，薄膜、第一开口、第二开口的设置位置依次降低，出水端包括入水管、第一排水管，第二开口连接入水管，第一开口连接第一排水管，第一排水管上设有电导率探头。

由此可见，在抗静电装置中的过滤箱内通过薄膜过滤二氧化碳气体后，二氧化碳气体与入水管进入过滤箱内的水混合后从第一排水管中排出，混合时，二氧化碳气体在水中产生碳酸根离子与氢离子，使得静电阻值降低至适当值，最后通过喷雾装置将混合后的水以水雾的状态喷出。

进一步的方案是，过滤箱的底部设置有第三开口，第三开口的设置位置低于第二开口的设置位置，第三开口连接第二排水管。

可见，过滤箱的底部设置有第三开口，第三开口的设置位置低于第二开口的设置位置，便于抗静电装置停止过程后，清洗过滤箱底部的积水。

进一步的的方案是，气液分离管朝向第一喷嘴的一端设有进水口，进水口连接出水管，气液分离管上还设有第一进气口以及第二进气口，第一进气口连接第一出气管，第二进气口连接第二出气管，气液分离管内连接有进水管、第一进气管以及第二进气管，进水管连接进水口，第一进气管连接第一进气口，第二进气管连接第二进气口，进水管连接抗静电装置。

可见，液分离管作为限位管，对连接第一喷嘴、第二喷嘴的管道进行集中限位，避免管道在切割机内随意摆放，影响切割清洗过程。

进一步的方案是，第一喷嘴、第二喷嘴以及气液分离管均固定在固定板上，固定板弯曲设置。

可见，固定板上同时固定第一喷嘴、第二喷嘴宜家气液分离管便于在清洁过程中整体的移动，固定板的弯曲设置便于适应在切割机内的安装位置。

进一步的方案是，抗静电装置还包括控制器以及与控制器连接的电池组。

附图说明

图1是本实用新型用于晶圆切割的抗静电系统实施例的结构框图。

图2是本实用新型用于晶圆切割的抗静电系统实施例中的喷雾装置的结构图。

图3是本实用新型用于晶圆切割的抗静电系统实施例中的第一喷嘴的结构图。

图4是沿图3中的A-A线剖切的剖面图。

图5是本实用新型用于晶圆切割的抗静电系统实施例中药水混合装置的结构图。

图6是本实用新型用于晶圆切割的抗静电系统实施例中的抗静电装置的部分结构图。

图7是本实用新型用于晶圆切割的抗静电系统实施例中的抗静电装置的另一部分结构图。

以下结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明。

具体实施方式

本实用新型的用于晶圆切割的抗静电系统应用在晶圆切割过程中，抗静电系统中的抗静电装置中的过滤箱内将二氧化碳气体溶在水中，产生碳酸根离子与氢离子，使得静电阻值降低至适当值，最后通过喷雾装置将混合后的水以水雾的状态喷出，保证晶圆的质量。