[实用新型]一种用于制备玫瑰花冻干粉的反应釜有效

专利信息
申请号: 201720607942.5 申请日: 2017-05-27
公开(公告)号: CN206896861U 公开(公告)日: 2018-01-19
发明(设计)人: 张子舟 申请(专利权)人: 西双版纳天恩生物科技开发有限公司
主分类号: B01D1/24 分类号: B01D1/24;B01F7/18;B01F15/06
代理公司: 云南派特律师事务所53110 代理人: 叶健
地址: 666207 云南省西*** 国省代码: 云南;53
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 制备 玫瑰花 干粉 反应
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及玫瑰花冻干粉制备技术领域,具体为一种用于制备玫瑰花冻干粉的反应釜。

背景技术

玫瑰花冻干粉有美白提亮、淡斑祛黄、细腻肤质、预防返黑、修复痘印、祛除皱纹、延缓衰老、淡化疤痕、填补痘坑、调节肌肤损伤、淡化色斑、紧致抗衰、细腻毛孔、减退疤痕、修复角质层、淡化深层纹、消除浅表纹、修复妊娠纹、深度补水、保湿锁水、抗衰修复、水油平衡等作用。所以在化妆品的市场上玫瑰花冻干粉还是非常受欢迎的。

常见的玫瑰花冻干粉的制备是在无菌环境下将药液冷冻成固态,再将水分加热升华干燥而成的,现有的反应釜绝大多数存在加热后水分干燥不均匀,存在搅拌匀称的死角出现,进而保证不了玫瑰花冻干粉制备的合格率。

实用新型内容

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种用于制备玫瑰花冻干粉的反应釜,包括反应釜釜身、反应釜釜体和交流电动机,所述交流电动机设置在反应釜釜体的顶端,且交流电动机连接搅拌轴,在搅拌轴上安装有多个搅拌机构,所述反应釜釜身由空气静区域、空气动区域、液体静区域和液体动区域组成,在液体动区域内安装有换热管,且换热管的两端分别设置有加热蒸汽入口和加热蒸汽出口,所述反应釜釜体的内壁于液体静区域内固定安装有环状分流突出端,在反应釜釜体的上表面依次还安装有气体出口和玫瑰花粉碎颗粒入口,且反应釜釜体的下端设有玫瑰花冻干粉收集口。

作为本实用新型一种优选的技术方案,所述换热管设置为螺旋状结构。

作为本实用新型一种优选的技术方案,所述搅拌机构包括四个对称垂直设置的搅拌叶片。

作为本实用新型一种优选的技术方案,所述环状分流突出端的数量为五个,且五个环状分流突出端等间距设置在反应釜釜体的内壁。

作为本实用新型一种优选的技术方案,所述换热管采用的材质为陶瓷。

作为本实用新型一种优选的技术方案,所述搅拌轴平行于反应釜釜体的侧面设置。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:该用于制备玫瑰花冻干粉的反应釜,通过设置螺旋状结构的换热管,可对玫瑰花粉碎颗粒进行充分全面的加热,用以保证颗粒的快速升华干燥,通过设置环状分流突出端,可以让玫瑰花粉碎液在液体静区域也能得到充分的混合,保障了其内部少量水分均匀快速的挥发,有效提高了玫瑰花冻干粉制备的合格率。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图;

图2为本实用新型反应釜釜身内部结构示意图;

图3为本实用新型反应釜釜体内壁结构示意图;

图4为本实用新型搅拌机构结构示意图。

图中:1-反应釜釜身;2-反应釜釜体;3-交流电动机;4-搅拌轴;5-玫瑰花粉碎颗粒入口;6-气体出口;7-搅拌机构;8-换热管;9-环状分流突出端;10-玫瑰花冻干粉收集口;11-空气静区域;12-液体静区域;13-液体动区域;14-搅拌叶片;15-加热蒸汽入口;16-加热蒸汽出口;17-空气动区域。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

实施例:

请参阅图1、图2、图3和图4,本实用新型提供一种技术方案:一种用于制备玫瑰花冻干粉的反应釜,包括反应釜釜身1、反应釜釜体2和交流电动机3,所述交流电动机3设置在反应釜釜体2的顶端,且交流电动机3连接搅拌轴4,在搅拌轴4上安装有多个搅拌机构7,所述反应釜釜身1由空气静区域11、空气动区域17、液体静区域12和液体动区域13组成,在液体动区域13内安装有换热管8,且换热管8的两端分别设置有加热蒸汽入口15和加热蒸汽出口16,所述反应釜釜体2的内壁于液体静区域12内固定安装有环状分流突出端9,在反应釜釜体2的上表面依次还安装有气体出口6和玫瑰花粉碎颗粒入口5,且反应釜釜体2的下端设有玫瑰花冻干粉收集口10。

优选的是,所述换热管8设置为螺旋状结构;所述搅拌机构7包括四个对称垂直设置的搅拌叶片14;所述环状分流突出端9的数量为五个,且五个环状分流突出端9等间距设置在反应釜釜体2的内壁;所述换热管8采用的材质为陶瓷;所述搅拌轴4平行于反应釜釜体2的侧面设置。

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