[实用新型]一种新型离子源偏压刻蚀系统有效
| 申请号： | 201720456719.5 | 申请日： | 2017-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN206774497U | 公开（公告）日： | 2017-12-19 |
| 发明（设计）人： | 刘伟基;冀鸣;陈蓓丽 | 申请（专利权）人： | 中山市博顿光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/305 | 分类号： | H01J37/305;H01J37/30 |
| 代理公司： | 广州市红荔专利代理有限公司44214 | 代理人： | 吝秀梅,李彦孚 |
| 地址： | 528437 广东省中山市火炬*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 新型 离子源 偏压 刻蚀 系统 | ||
【权利要求书】：
1.一种新型离子源偏压刻蚀系统，其特征在于，包括真空腔室(1)及置于真空腔室(1)内的离子源(2)、刻蚀平台(3)、第一电源(4)、第二电源(5)及第三电源(6)，刻蚀平台(3)与离子源(2)的栅网正对设置，离子源(2)的栅网包括屏栅(21)及加速栅(22)；第一电源(4)的正极与屏栅(21)连接，第一电源(4)的负极与第二电源(5)的正极及第三电源(6)的正极连接，第二电源(5)的负极与加速栅(22)连接，第三电源(6)的负极与刻蚀平台(3)连接；第一电源(4)的负极与第二电源(5)的正极及第三电源(6)的正极连接后接地。
2.根据权利要求1所述的一种新型离子源偏压刻蚀系统，其特征在于，离子源(2)的外壳接地。
3.根据权利要求1所述的一种新型离子源偏压刻蚀系统，其特征在于，真空腔室(1)接地。
4.根据权利要求1所述的一种新型离子源偏压刻蚀系统，其特征在于，第三电源(6)上设有电压调节装置。
5.根据权利要求1至4任一项所述的一种新型离子源偏压刻蚀系统，其特征在于，离子源(2)上设有功率调节装置。
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