[发明专利]一种超导腔氮掺杂方法

权利要求书

1.一种超导腔氮掺杂方法，具体步骤如下：

1)对超导腔的内表面进行缓冲化学抛光；然后清洗超导腔内表面、晾干；

2)将步骤1)处理后的所述超导腔放入真空炉中进行加热，真空炉的温升速率不能超过5度/分钟，压力小于1E-3Pa；加热至800度，保温3小时，对真空炉进行除氢处理，压力小于1E-3Pa；

3)除氢处理结束后，将真空炉的抽气阀门关闭，注入高纯氮气2分钟且真空炉内压力保持在2～4Pa，将氮掺入超导腔表面；

4)氮气注入结束后，对真空炉进行除氮气处理；

5)除氮气处理结束后，对真空腔保温设定时间以利于超导腔对氮的吸收，然后开始降温至50度以下，开启炉门，完成超导腔的氮掺杂。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，用酸液对超导腔的内表面进行缓冲化学抛光；其中，所述酸液包括浓度为48％的HF、浓度为69％的HNO₃和浓度为84％的H₃PO₄，且HF：HNO₃：H₃PO₄的体积比为1:1:2；抛光结束后，要将超导腔灌满纯水洗去残留酸液，直至超导腔内纯水PH值大于6。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，用酸液对超导腔的内表面进行缓冲化学抛光时，所述酸液的流速小于18升/分钟，抛光时间为25～35分钟。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，清洗超导腔内表面的方法为：在洁净间对超导腔进行高压纯水喷淋，时间30分钟以上，晾干时间不小于10小时。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤1)中，首先将超导腔放入超声清洗池进行清洗，再用纯水将超导腔内、外均冲洗干净、晾干；然后对超导腔的内表面进行缓冲化学抛光；然后清洗超导腔内表面、晾干。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述高纯氮气的纯度>99.9997％。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述真空炉配备有低温泵。

8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述超导腔为内、外表面均光滑、平整、洁净的超导腔。