[发明专利]钕铁硼产品表面复合防护方法

说明书

本发明提供了钕铁硼产品表面复合防护方法，步骤包括：1)将经过预处理后的钕铁硼基体放入反应室，设置镀膜工艺参数；2)通入氩气作为溅射气体，对Al靶材预射10～20min后，对钕铁硼基体进行镀Al膜；3)Al膜镀完后，对SiC烧结靶靶材预射10～20min后，对钕铁硼基体进行镀SiC膜。采用在SiC薄膜与钕铁硼基体之间添加Al作为缓冲层技术提高膜基结合力，在钕铁硼基体上沉积(SiC/Al)双层膜更加提高其耐蚀性；采用在SiC薄膜与钕铁硼基体之间添加Al作为缓冲层技术提高膜基结合力，SiC/Al双层膜磁性参数中其矫顽力(Hcj)明显增加。

技术领域

本发明属于永磁体加工技术领域，特别是一种钕铁硼产品表面复合防护方法。

背景技术

磁性材料在航空、航天、军工、电子元器件等战略性领域具有很广泛的应用，永磁材料是指通过外界磁场对磁体充磁后撤掉外磁场，磁体依然保持强磁性。永磁材料主要包括永磁铁氧体、铁铬钴系永磁材料、铝镍钴系永磁材料、稀土永磁材料和复合永磁材料五大类。NdFeB作为第三代稀土永磁材料，由于其原料资源储备丰富、加工工艺成熟简单、成本低廉，使其在各个领域应用广泛。极高的磁能积、矫顽力和能量密度，同时对热和时间的稳定性好，抗外界磁场的干扰的能力强，这些优异的性能使钕铁硼磁体在现代化工业电子元器件生产中拥有很大市场，对薄型化、小型化、轻量化各种电机、磁选仪器和仪表等设备成为可能。在外界环境下，钕铁硼永磁材料易发生氧化和吸氢反应而被腐蚀，一般采用合金化或表面处理方法防腐，合金化指制备钕铁硼永磁材料时掺入合金元素可以在钕铁硼的晶界处形成金属间化合物，提高耐腐蚀性能，但是这样牺牲磁体本身磁学性能为前提，且添加的稀土金属价格昂贵。表面处理包括电沉积、化学沉积、物理气相沉积及有机聚合物树脂涂层等。钕铁硼本身疏松、多孔、多相，在电沉积时会出现一系列附带的问题，造成电沉积成本上升，且“三废”问题处理起来麻烦。化学沉积中，存在析氢腐蚀和镀液的老化问题。有机高分子涂层的结合力不强，成本略高，涂料利用率低。

物理气相沉积是指在仓室真空度较高的真空条件下，把所需镀材料电离成离子或者气化成分子或是原子，并通过一定的电压所形成的磁场的作用下，使得所需沉积材料的原子或分子在基体表面沉积成具有某种特殊功能的薄膜的技术。方法主要有：蒸发镀、磁控溅射和离子镀等。比较常用的是金属Al膜，利用物理气相沉积法制备的Al膜，膜与基底的结合力、耐腐蚀性能等均较好，但是用于钕铁硼永磁材料表面防护时，薄膜沉积不够致密，盐雾条件下易被腐蚀。

发明内容

本发明的目的是提供一种钕铁硼产品表面复合防护方法，解决现有技术中钕铁硼永磁材料表面防护时，薄膜沉积不够致密，盐雾条件下易被腐蚀的技术问题

针对所提到的问题，本发明提供了一种钕铁硼产品表面复合防护方法，包括：

1)将经过预处理后的钕铁硼基体放入反应室，设置镀膜工艺参数；

2)通入氩气作为溅射气体，对Al靶材预射10～20min后，对钕铁硼基体进行镀Al膜；

3)Al膜镀完后，对SiC烧结靶靶材预射10～20min后，对钕铁硼基体进行镀SiC膜。

优选方案是，将反应室抽真空，真空度为6～10Pa。

优选方案是，所述Al靶材直径为60mm，纯度为99.99％。

优选方案是，所述SiC烧结靶直径为60mm，纯度为99.99％。

优选方案是，所述反应室气压为1～3Pa。

优选方案是，所述Al膜的厚度为90～300nm。

优选方案是，所述SiC膜的厚度为100～400nm。

优选方案是，所述预处理的步骤包括：

1)选取40mm*10mm*5mm规格的钕铁硼基体，进行手工磨制、机器抛光；