[发明专利]锂硫电池的附加自组装层的羧基化隔膜及制备方法

权利要求书

1.一种锂硫电池的附加自组装层的羧基化隔膜，其特征在于，所述隔膜是由普通电池隔膜经羧基化处理作为基底材料，在所述基底材料表面引入至少一层自组装层形成的阻隔层，所述自组装层成分是聚苯乙烯磺酸钠、极化的聚偏氟乙烯或羧甲基纤维素钠；

所述普通电池隔膜为聚丙烯隔膜或聚丙烯-聚乙烯-聚丙烯三层复合隔膜；

所述隔膜的制备方法，包括如下步骤：

(1)对普通电池隔膜进行羧基化处理；

(2)正电化修饰；

(3)引入由聚苯乙烯磺酸钠、极化的聚偏氟乙烯或羧甲基纤维素钠形成的自组装层；

所述步骤(1)是先将所述隔膜的聚丙烯的丙烯单体的侧链碳氧化成羟基，然后在氧化剂条件下，进一步将羟基氧化成羧基；

所述侧链碳氧化成羟基的操作如下：将所述隔膜用低碳醇浸渍活化一预定时间，再用过硫酸盐溶液氧化得到，所述过硫酸盐选自过硫酸铵、过硫酸钾或者过硫酸钠；

所述将羟基氧化成羧基的操作如下：将前一步已羟基化处理的所述隔膜放入有催化剂的过氧化氢溶液中，在加热至45℃-99℃温度条件下，反应2-10h，从而将羟基氧化成羧基；

所述步骤(2)是将已羧基化处理的所述隔膜用聚二烯丙基二甲基氯化铵溶液或多聚赖氨酸溶液浸泡处理，将所述隔膜的羧基进行正电化修饰；

所述步骤(3)是将正电化修饰后的所述隔膜用聚苯乙烯磺酸钠溶液、极化的聚偏氟乙烯溶液或羧甲基纤维素钠溶液浸泡处理，使所述隔膜表面形成自组装层的阻隔层。

2.根据权利要求1所述的一种锂硫电池的附加自组装层的羧基化隔膜，其特征在于，循环所述步骤(2)-(3)调节所述隔膜上阻隔层的厚度。