[发明专利]一种太阳能电池的制作方法及点接触的实现方法

权利要求书

1.一种点接触的实现方法，其特征在于，包括：

在硅基体的表面制作扩散层和钝化膜；

将所述钝化膜开设出点状的通孔，所述通孔与发射极和/或背电场的位置相对应；

在所述通孔中印刷非烧穿型浆料，烘干并烧结所述非烧穿型浆料。

2.根据权利要求1所述的点接触的实现方法，其特征在于，所述将所述通孔的形状为圆形、正方形或菱形。

3.根据权利要求1所述的点接触的实现方法，其特征在于，所述将所述钝化膜开设出点状的通孔为：

利用激光、光刻或浆料刻蚀方式将所述钝化膜开设出点状的通孔。

4.根据权利要求3所述的点接触的实现方法，其特征在于，所述利用激光的方式将所述钝化膜开设出点状的通孔为：

利用频率为20KHz至40KHz、功率为20W至40W、速度为10m/s至50m/s的激光将所述钝化膜开设出点状的通孔。

5.根据权利要求1-4任一项所述的点接触的实现方法，其特征在于，所述在所述通孔中印刷非烧穿型浆料为：

利用间距为1100μm至1400μm的丝网在55N至65N的压力下，在所述通孔中印刷所述非烧穿型浆料。

6.根据权利要求5所述的点接触的实现方法，其特征在于，所述在硅基体的表面制作扩散层和钝化膜为：

在所述硅基体的正面和背面均制作扩散层和钝化膜。

7.一种太阳能电池的制作方法，其特征在于，包括利用如权利要求1-6任一项所述的方法制作点接触。