[发明专利]基于BJT的集成电路抗静电转接板有效

专利信息
申请号: 201711352234.2 申请日: 2017-12-15
公开(公告)号: CN108321155B 公开(公告)日: 2021-02-02
发明(设计)人: 王起;刘文新 申请(专利权)人: 天水电子电器检测试验中心
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L21/762
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 李斌
地址: 741000 甘肃*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要:
搜索关键词: 基于 bjt 集成电路 抗静电 转接
【权利要求书】:

1.一种基于BJT的集成电路抗静电转接板(10),其特征在于,包括:硅基衬底(11)、TSV孔(12)、隔离槽(13)、BJT(14)、插塞(15)、金属互连线(16)、凸点(17)及钝化层(18);

所述TSV孔(12)、隔离槽(13)及所述BJT(14)沿横向依次间隔地设置于所述硅基衬底(11)中;其中,所述TSV孔(12)中填充多晶硅材料;所述隔离槽(13)中填充二氧化硅材料;

所述插塞(15)设置于所述TSV孔(12)与所述BJT(14)上下表面;

所述金属互连线(16)设置于所述TSV孔(12)与所述BJT(14)上表面的所述插塞(15)上;

所述凸点(17)设置于所述TSV孔(12)与所述BJT(14)下表面的所述插塞(15)上;

所述钝化层(18)设置于所述硅基衬底(11)上下表面;

所述BJT(14)的基区掺杂浓度为6×1017cm-3~1×1019cm-3;所述BJT(14)的发射区掺杂浓度为6×1020cm-3~3×102;所述BJT(14)的集电区的掺杂浓度为3×1018cm-3~5×1019cm-3

所述金属互连线围绕成螺旋状。

2.根据权利要求1所述的转接板(10),其特征在于,所述硅基衬底(11)的掺杂浓度为1014~1017cm-3

3.根据权利要求1所述的转接板(10),其特征在于,在所述TSV孔(12)中,所述多晶硅材料的掺杂浓度为3×1020cm-3~5×1021cm-3

4.根据权利要求1所述的转接板(10),其特征在于,所述插塞(15)为钨材料。

5.根据权利要求1所述的转接板(10),其特征在于,所述金属互连线(16)与所述凸点(17)为铜材料。

6.根据权利要求1所述的转接板(10),其特征在于,所述钝化层(18)为二氧化硅材料。

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