[发明专利]一种阵列基板、其制作方法及显示面板在审

专利信息
申请号: 201711346233.7 申请日: 2017-12-15
公开(公告)号: CN107894681A 公开(公告)日: 2018-04-10
发明(设计)人: 黄鹏;杨恕权;王伟;王研鑫 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1345 分类号: G02F1/1345;G02F1/1333
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司11243 代理人: 许静,黄灿
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 阵列 制作方法 显示 面板
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,其特征在于,所述阵列基板包括衬底基板及走线层,所述衬底基板包括周边区、弯折区和驱动电路区,所述弯折区位于所述驱动电路区与所述周边区之间,所述弯折区中的部分衬底基板被去除,未被去除的所述弯折区中的衬底基板形成应力缓冲部,所述应力缓冲部位于所述弯折区靠近所述周边区的一端且与所述周边区中的衬底基板连接。

2.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述驱动电路区中的衬底基板与所述周边区中的衬底基板平行且相对设置,所述应力缓冲部与所述走线层抵接。

3.如权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述应力缓冲部与所述周边区中的衬底基板连接的一端的厚度大于所述应力缓冲部远离所述周边区中的衬底基板的一端的厚度。

4.如权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述应力缓冲部靠近所述走线层的侧面为倾斜面,所述倾斜面与所述周边区中的衬底基板之间的夹角为40度至70度。

5.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述应力缓冲部的厚度小于所述周边区与所述驱动电路区中的衬底基板的厚度,所述应力缓冲部与所述周边区中的衬底基板形成台阶状结构。

6.如权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,所述应力缓冲部的厚度为5微米至10微米。

7.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述应力缓冲部远离所述走线层的侧面呈锯齿状。

8.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述应力缓冲部远离所述走线层的侧面呈朝向远离所述走线层的方向凸出的曲面,所述应力缓冲部上与所述周边区的衬底基板连接的一端的厚度和所述应力缓冲部上远离所述周边区的衬底基板的一端的厚度小于所述应力缓冲部其他部分的厚度。

9.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述走线层远离所述衬底基板的侧面上设置有保护层,对应覆盖所述应力缓冲部的保护层的厚度大于其他位置的保护层的厚度。

10.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括如权利要求1至9中任一项所述的阵列基板。

11.一种阵列基板的制作方法,其特征在于,所述方法包括:

在衬底基板中划分出周边区、弯折区与驱动电路区,所述弯折区位于所述驱动电路区与所述周边区之间;

去除位于所述弯折区中的部分衬底基板,使未被去除的所述弯折区中的衬底基板形成与所述周边区的衬底基板连接的应力缓冲部;

将对应位于所述弯折区中的走线层进行弯曲,使所述驱动电路区中的衬底基板与所述的周边区中的衬底基板平行且相对设置。

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