[发明专利]彩色滤光片基板及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201711342737.1 申请日: 2017-12-14
公开(公告)号: CN108008567A 公开(公告)日: 2018-05-08
发明(设计)人: 袁夏梁 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1339
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 代理人: 林才桂;闻盼盼
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 彩色 滤光 片基板 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种彩色滤光片基板的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:

步骤1、提供衬底基板(10),在所述衬底基板(10)上形成黑色矩阵(20),所述黑色矩阵(20)在所述衬底基板(10)上围出间隔设置的数个子像素区,所述数个子像素区包括第一子像素区(11)、第二子像素区(12)、第三子像素区(13);

步骤2、在所述衬底基板(10)上形成彩色滤光层(30),在制作彩色滤光层(30)的过程中形成位于黑色矩阵(20)上的柱状隔垫物(40);

所述彩色滤光层(30)包括位于第一子像素区(11)内的第一色阻单元(31)、位于第二子像素区(12)内的第二色阻单元(32)、位于第三子像素区(13)内的第三色阻单元(33);

所述柱状隔垫物(40)由第一隔垫物单元(41)、第二隔垫物单元(42)、第三隔垫物单元(43)中的一层或者多层叠加形成;

所述第一色阻单元(31)与第一隔垫物单元(41)均由第一色阻层(51)构成;所述第二色阻单元(32)与第二隔垫物单元(42)均由第二色阻层(52)构成;所述第三色阻单元(33)与第三隔垫物单元(43)均由第三色阻层(53)构成;

步骤3、在所述衬底基板(10)、彩色滤光层(30)、黑色矩阵(20)、柱状隔垫物(40)上沉积透明导电薄膜(70),形成位于所述衬底基板(10)、彩色滤光层(30)与黑色矩阵(20)上的公共电极(71)以及位于所述柱状隔垫物(40)上的透明导电层(72),所述公共电极(71)与透明导电层(72)断开不相连。

2.如权利要求1所述的彩色滤光片基板的制作方法,其特征在于,所述柱状隔垫物(40)由第一隔垫物单元(41)、第二隔垫物单元(42)、第三隔垫物单元(43)从下至上依次叠加形成。

3.如权利要求2所述的彩色滤光片基板的制作方法,其特征在于,所述步骤2包括:

步骤21、在所述衬底基板(10)与黑色矩阵(20)上形成第一色阻层(51),采用第一半色调光罩(61)对所述第一色阻层(51)进行曝光、显影,制得位于第一子像素区(11)内的第一色阻单元(31)、位于黑色矩阵(20)上的第一隔垫物单元(41),所述第一色阻单元(31)与第一隔垫物单元(41)均由第一色阻层(51)构成,且所述第一隔垫物单元(41)的高度大于所述第一色阻单元(31)的高度;

步骤22、在所述衬底基板(10)、黑色矩阵(20)、第一色阻单元(31)、第一隔垫物单元(41)上形成第二色阻层(52),采用第二半色调光罩(62)对所述第二色阻层(52)进行曝光、显影,制得位于第二子像素区(12)内的第二色阻单元(32)、位于第一隔垫物单元(41)上的第二隔垫物单元(42);

所述第二色阻单元(32)与第二隔垫物单元(42)均由第二色阻层(52)构成,且所述第二隔垫物单元(42)的高度大于所述第二色阻单元(32)的高度;

步骤23、在所述衬底基板(10)、黑色矩阵(20)、第一色阻单元(31)、第二色阻单元(32)、第二隔垫物单元(42)上形成第三色阻层(53),采用第三半色调光罩(63)对所述第三色阻层(53)进行曝光、显影,制得位于第三子像素区(13)内的第三色阻单元(33)、位于第二隔垫物单元(42)上的第三隔垫物单元(43),所述第三色阻单元(33)与第三隔垫物单元(43)均由第三色阻层(53)构成,且所述第三隔垫物单元(43)的高度大于所述第三色阻单元(33)的高度;

在黑色矩阵(20)上依次叠加的第一隔垫物单元(41)、第二隔垫物单元(42)、第三隔垫物单元(43)共同构成柱状隔垫物(40);

所述第一色阻单元(31)、第二色阻单元(32)、第三色阻单元(33)共同构成彩色滤光层(30)。

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