[发明专利]显示装置有效

专利信息
申请号: 201711284742.1 申请日: 2017-12-07
公开(公告)号: CN108242457B 公开(公告)日: 2021-11-09
发明(设计)人: 白正善;金正五;李鍾源;李东奎 申请(专利权)人: 乐金显示有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 蔡胜有
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示装置,包括:

多条信号线,所述多条信号线设置在基板上;

多个缓冲层,所述多个缓冲层包括至少一个有机缓冲层和至少一个无机缓冲层;

至少一个晶体管,所述至少一个晶体管设置成与所述多条信号线中的一条或更多条重叠,并且在所述至少一个晶体管与所述多条信号线中的所述一条或更多条之间插入有所述多个缓冲层;以及

存储电容器,所述存储电容器包括设置成彼此重叠的至少三个存储电极,并且在所述至少三个存储电极之间插入有所述至少一个无机缓冲层,

其中所述多个缓冲层包括第一无机缓冲层、第二无机缓冲层、有机缓冲层和第三无机缓冲层,并且

其中所述第一无机缓冲层、所述第二无机缓冲层、所述有机缓冲层和所述第三无机缓冲层顺序布置在所述基板上。

2.根据权利要求1所述的显示装置,其中所述第三无机缓冲层设置在所述有机缓冲层上并且具有与所述有机缓冲层相同的线宽度和相同的形状。

3.根据权利要求2所述的显示装置,其中所述存储电容器包括:

设置在所述基板与所述第一无机缓冲层之间的第一存储电极;

设置在所述第一无机缓冲层上的第二存储电极;和

设置在所述第二无机缓冲层上的第三存储电极。

4.根据权利要求3所述的显示装置,其中所述第一存储电极、所述第二存储电极和所述第三存储电极中的每一个在宽度方向上都具有位于同一侧的第一侧部和位于与所述同一侧相对的另一侧的相对侧部,

其中所述第二存储电极的所述第一侧部比所述第三存储电极的所述第一侧部在所述宽度方向上伸出更多,并且

其中所述第一存储电极和所述第三存储电极中的每一个的所述相对侧部比所述第二存储电极的所述相对侧部在所述宽度方向上伸出更多。

5.根据权利要求4所述的显示装置,其中所述第一存储电极的所述相对侧部比所述第三存储电极的所述相对侧部在所述宽度方向上伸出更多。

6.根据权利要求4或5所述的显示装置,进一步包括:

第一存储接触孔,所述第一存储接触孔形成为贯穿所述第一无机缓冲层和所述第二无机缓冲层以暴露所述第一存储电极和所述第三存储电极;和

第二存储接触孔,所述第二存储接触孔形成为贯穿所述第二无机缓冲层以暴露所述第二存储电极。

7.根据权利要求6所述的显示装置,其中所述第一存储电极使用与所述多条信号线中的一条相同的材料形成在与所述多条信号线中的所述一条相同的层上,并且

所述第三存储电极由与所述至少一个晶体管的有源层相同的材料形成。

8.根据权利要求6所述的显示装置,进一步包括:

连接至所述至少一个晶体管的发光二极管。

9.根据权利要求8所述的显示装置,其中所述至少一个晶体管包括:

连接至所述发光二极管的驱动晶体管,所述驱动晶体管包括经由所述第一存储接触孔连接至所述第一存储电极和所述第三存储电极的漏电极;和

连接至所述驱动晶体管的开关晶体管,所述开关晶体管包括经由所述第二存储接触孔连接至所述第二存储电极的漏电极。

10.根据权利要求9所述的显示装置,其中所述第一存储电极使用与所述多条信号线中的一条相同的材料形成在与所述多条信号线中的所述一条相同的层上,并且

所述第三存储电极由与所述驱动晶体管的有源层相同的材料形成。

11.根据权利要求1所述的显示装置,其中所述多条信号线包括:

连接至发光二极管的低电压供给线;和

平行于所述低电压供给线布置的高电压供给线和数据线两者,

其中所述低电压供给线、所述高电压供给线和所述存储电容器中的至少一个与所述数据线重叠,并且在所述低电压供给线、所述高电压供给线和所述存储电容器中的所述至少一个与所述数据线之间插入有所述多个缓冲层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于乐金显示有限公司,未经乐金显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711284742.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top