[发明专利]用于剥离工艺的剥离液机台及其工作方法

说明书

本发明涉及一种用于剥离工艺的剥离液机台及其工作方法。该用于剥离工艺的剥离液机台包括：多级顺序排列的多个腔室、与所述多个腔室对应连接的多个存储箱、与所述多个存储箱对应连接的多个过滤器，所述过滤器还与下一级腔室连接，所述存储箱内设有离心过滤装置。本发明还提供了相应的工作方法。本发明用于剥离工艺的剥离液机台及其工作方法设计了一种适用于剥离工艺的改进的剥离液机台及工作方法，解决剥离制程传统剥离液机台过滤器的堵塞问题。

技术领域

本发明涉及半导体工艺技术领域，尤其涉及一种用于剥离工艺的剥离液机台及其工作方法。

背景技术

在半导体工艺的领域之中，光刻工艺已经是制作过程中不可或缺的步骤之一；如业界所公知的，光刻过程包括下列的几个步骤：在基板上方涂布光阻，利用光罩对基板上的光阻进行曝光以定义电子产品对应的电路图案(circuit pattern)，如此才能够对光阻下的基板进行接下来的蚀刻过程，以形成所需的电路图案；当然，一个电子产品的完成，必须重复执行数次上述的步骤，以TFT LCD阵列基板作为例子来说，就需要通过多道光罩来进行光刻以形成层叠结构。当前常用的TFT LCD阵列设计中，就有五道光罩必须进行光刻，来分别完成栅极层(gate electrode，GE)，半导体层(semiconductor，SE)，源极/漏极层(sourcedrain，SD)，接触孔(contact hole，CH)，像素电极层(pixel electrode，PE)五个不同层的电路图案。

剥离(Lift-off)工艺通常用于TFT(薄膜晶体管)制程中的光罩缩减，Lift-off制程先形成光阻并图案化，再在光阻上成膜，移除光阻的同时，沉积在光阻上的膜层也被剥离，从而完成膜层的图形化，通过该制程可以实现两次光刻合并为一次以达到光罩缩减的目的。

然而，由于光阻上沉积了薄膜(该薄膜材料可以为金属，ITO(氧化铟锡)等用于制备TFT的膜层)，在剥离光阻的同时薄膜碎屑被带入剥离液(Stripper)中，大量的薄膜碎屑将会导致剥离液机台中的过滤器(filter)堵塞，从而导致机台无法使用。

参见图1，其为现有剥离液机台的模块示意图，主要包括n级顺序排列的腔室(chamber)1，即腔室_1～腔室_n，各级腔室1分别设有相应的存储箱(tank)2，即存储箱_1～存储箱_n以及过滤器3，腔室1、存储箱2和过滤器3中的箭头表示剥离液流动方向；各腔室1设计为适合进行剥离制程，用于向制程中的玻璃基板供给剥离液，具体结构在此不再赘述。

处于剥离制程中的玻璃基板，按照玻璃基板传送方向从腔室_1开始逐级由各腔室1向玻璃基板供给剥离液以进行剥离制程。剥离液从腔室_1进入相应的存储箱_1，再经过相应的第一个过滤器3过滤后进入第二级的腔室_2，再经过第二个过滤器3后进入第三级的腔室_3……。

现有的剥离液机台在进行剥离工艺时，因剥离液中含有大量大面积薄膜碎屑4而容易导致第一、二级腔室1的过滤器3堵塞严重，使得机台无法使用。

发明内容

因此，本发明的目的在于提供一种用于剥离工艺的剥离液机台，解决剥离制程中过滤器堵塞的问题。

本发明的另一目的在于提供一种用于剥离工艺的剥离液机台的工作方法，解决剥离制程中过滤器堵塞的问题。

为实现上述目的，本发明提供了一种用于剥离工艺的剥离液机台，包括：多级顺序排列的多个腔室、与所述多个腔室对应连接的多个存储箱、与所述多个存储箱对应连接的多个过滤器，所述过滤器还与下一级腔室连接，所述存储箱内设有离心过滤装置，其中：

所述多个腔室用于按照处于剥离制程的玻璃基板的传送方向逐级向玻璃基板提供剥离液；

所述存储箱用于收集和存储来自腔室的经历剥离制程的剥离液；

所述过滤器用于过滤来自存储箱的剥离液并且输送给下一级腔室；