[发明专利]一种手动光刻机的预对准方法及预对准装置在审
申请号: | 201711269784.8 | 申请日: | 2017-12-05 |
公开(公告)号: | CN109870885A | 公开(公告)日: | 2019-06-11 |
发明(设计)人: | 王金翠;苏建;徐现刚;肖成峰;郑兆河 | 申请(专利权)人: | 山东华光光电子股份有限公司 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00 |
代理公司: | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人: | 王楠 |
地址: | 250101 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 掩膜版 光刻机 卡槽 芯片放置槽 预对准 芯片 预对准装置 对位标记 光刻过程 对准边 减小 光刻版图形 卡槽中部 设备领域 生产效率 相邻直角 芯片放置 承片台 精对准 曝光区 圆弧边 直角边 中空区 中芯片 重合 承片 大边 小边 中空 投影 曝光 保证 | ||
1.一种手动光刻机的预对准装置,其特征在于,包括掩膜版架和承片台;
掩膜版架上设有掩膜版卡槽,掩膜版卡槽与掩膜版尺寸相同,掩膜版卡槽中部中空,中空区为曝光区;
承片台上表面设有芯片放置槽,芯片放置槽在承片台的中间位置;芯片放置槽在水平面的投影包括圆弧边和两个相邻直角边,两个直角边分别为芯片小边对准边和芯片大边对准边。
2.根据权利要求1所述的手动光刻机的预对准装置,其特征在于,掩膜版卡槽的深度小于掩膜版的厚度。
3.根据权利要求1所述的手动光刻机的预对准装置,其特征在于,承片台上方设有密封圈,密封圈面积大于芯片放置槽的开口面积。
4.根据权利要求1所述的手动光刻机的预对准装置,其特征在于,曝光区的水平投影为圆形区域。
5.一种手动光刻机的预对准方法,利用权利要求1所述的手动光刻机的预对准装置,包括步骤如下:将掩膜版放置在掩膜版架上面,将芯片按照芯片放置槽的形状放置在承片台上面以后,掩膜版上面的对位标记和芯片上面的对位标记基本重合,完成了芯片和掩膜版的预对准过程。
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