[发明专利]柔性显示器件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201711257946.6 申请日: 2017-12-04
公开(公告)号: CN108008583B 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 白思航 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G02F1/1339 分类号: G02F1/1339;G02F1/1333;G09F9/30
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 柔性 显示 器件 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种柔性显示器件的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)在一柔性塑料基板上依次设置第一栅极绝缘层和第二栅极绝缘层;

(2)采用第一光罩制程,在第一栅极绝缘层和第二栅极绝缘层中形成第一刻蚀孔和第二刻蚀孔,其中将在所述第一光罩上且对应第一刻蚀孔位置的孔径的设计值设置为小于所述第一刻蚀孔的实际需求值,并且以对第二刻蚀孔曝光能量为衡量标准的方式对第一刻蚀孔进行曝光;

(3)在第一刻蚀孔内填充金属材料以形成第一金属柱;

(4)在第二栅极绝缘层上设置第一内层介电层;

(5)采用第二光罩制程,在第一内层介电层中形成第三刻蚀孔,并在第一栅极绝缘层、第二栅极绝缘层和第一内层介电层中形成第四刻蚀孔;

(6)在第三刻蚀孔内填充有机材料以形成第一有机柱,且在第四刻蚀孔内填充有机材料以形成为第二有机柱。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在步骤(2)中所使用的第一光罩与在步骤(5)中所使用的第二光罩为相同。

3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,在步骤(2)中,通过控制刻蚀速率和时间,使得所述第一刻蚀孔的深度小于第一栅极绝缘层的厚度与第二栅极绝缘层的厚度之和。

4.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,在步骤(3)中,采用物理气相沉积方法,在第二栅极绝缘层上沉积一金属层,以使得第一刻蚀孔内填充金属材料。

5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,当第二栅极绝缘层上沉积一金属层时,在第二刻蚀孔内也填充金属材料;对所述金属层进行图案化,以去除第二刻蚀孔内所填充的金属材料。

6.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,在步骤(5)中,通过控制刻蚀速率和时间,使得所述第三刻蚀孔贯穿所述第一内层介电层。

7.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,在步骤(5)中,将在所述第二光罩上且对应第三刻蚀孔位置的孔径的设计值设置为小于所述第三刻蚀孔的实际需求值,并且以对第四刻蚀孔曝光能量为衡量标准的方式对第三刻蚀孔进行曝光。

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