[发明专利]柔性衬底及其制备方法、显示器

权利要求书

1.一种柔性衬底的制备方法，其特征在于，所述方法包括：

提供一衬底基板，所述衬底基板上有间隔设置的凸起结构；

在所述衬底基板涂布柔性衬底，以制备具有凹陷结构的柔性衬底；

在所述柔性衬底上制备光致发光层；

在所述光致发光层及所述柔性衬底上制备阻隔层。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述光致发光层的制备方法采用打印或者涂覆中的一种。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述在所述柔性衬底上制备光致发光层包括：

在所述柔性衬底的凹陷结构上注入光致发光材料，以形成所述光致发光层；

固化所述光致发光层。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述在所述柔性衬底上制备光致发光层包括：

在所述柔性衬底上涂覆所述光致发光层。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述凹陷结构的深度范围为1um-80um。

6.根据权利要求1-5所述的方法，其特征在于，所述光致发光层为量子点光致发光材料、磷光荧光体材料以及稀土长余辉荧光体材料中的一种。

7.一种柔性衬底，其特征在于，所述柔性衬底上具有凹陷结构；

光致发光层，形成于所述柔性衬底上；

阻隔层，形成于所述柔性衬底及所述光致发光层上。

8.根据权利要求7所述的柔性衬底，其特征在于，所述凹陷结构的厚度范围为1um-80um。

9.根据权利要求1所述的柔性衬底，其特征在于，所述光致发光层为量子点光致发光材料、磷光荧光体材料以及稀土长余辉荧光体材料中的一种。

10.一种显示器，其特征在于，所述显示器包括偏光层以及权利要求1-6任一所述方法项制备的柔性衬底，其中，所述偏光层位于所述柔性衬底的内侧。