[发明专利]一种有机电致发光器件及其制备方法和显示装置

权利要求书

1.一种有机电致发光器件，包括基板以及设置于所述基板的像素界定层和空穴注入层；其特征在于，所述空穴注入层为双层结构，包括设置于所述基板的底层、以及盖设于所述底层和所述基板的顶层，所述顶层在所述基板上的投影面积大于所述底层在所述基板上的投影面积、且所述顶层的空穴迁移率大于所述底层的空穴迁移率，且通过调节所述空穴注入层各位置处的厚度和空穴迁移率以使空穴在所述空穴注入层中的迁移时间相同。

2.根据权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述底层采用具有含氟材料的聚苯胺或聚噻吩材料制成；

所述顶层采用聚苯胺或聚噻吩材料制成。

3.根据权利要求2所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述含氟材料为全氟十二烷基三氯硅烷、氟化丙烯酸甲酯、全氟己氧基甲烷、含氟异氰酸酯、含氟聚氨酯、含氟的异氰酸酯、含氟烷基乙烯基二醇类、含氟烷基乙烯基二醇类、含氟酰卤类、甲基丙烯酸氟烷基酯类中的至少一种。

4.根据权利要求1-3任一项所述的有机电致发光器件，其特征在于，沿所述基板朝向所述像素界定层的方向，所述底层的厚度为5nm～100nm。

5.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-4中任一项所述的有机电致发光器件。

6.一种如权利要求1-4任一项所述的有机电致发光器件的制备方法，其特征在于，包括：

提供设置有像素界定层的基板；

对所述基板进行第一次表面处理；

在经过第一次表面处理的所述基板上形成底层，并对所述底层进行干燥处理；

对形成有所述底层的所述基板进行第二次表面处理；

在经过第二次表面处理的所述基板上形成顶层，所述顶层盖设于所述底层和所述基板上，并对所述顶层进行干燥处理。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，在对所述基板进行第一次表面处理的步骤中：

所述第一次表面处理为等离子体处理或自组装处理。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，在对所述基板进行第一次表面处理的步骤中：

采用含有CF4气体的混合气体形成等离子体对所述基板进行所述等离子体处理，或者，采用含有氟化硅烷的混合溶液对所述基板进行所述自组装处理。

9.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，在对形成有所述底层的所述基板进行第二次表面处理的步骤中：

所述第二次表面处理为UV处理。

10.根据权利要求6-9任一项所述的制备方法，其特征在于，在经过第一次表面处理的所述基板上形成底层的步骤中：

采用喷墨打印工艺形成所述底层；

且在经过第二次表面处理的所述基板上形成顶层的步骤中：

采用喷墨打印工艺形成所述顶层。