[发明专利]基于阳极技术的DLC镀膜装置有效
| 申请号： | 201711132455.9 | 申请日： | 2017-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN107937877B | 公开（公告）日： | 2019-11-08 |
| 发明（设计）人： | 王向红;黄志宏;郎文昌;高斌 | 申请（专利权）人： | 温州职业技术学院 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/35;C23C14/50;C23C14/06 |
| 代理公司： | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人： | 张火春 |
| 地址： | 325035 浙江省温州市瓯海*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 接触器 旋转磁控靶 阳极 偏压电源 旋转电弧 阴极 磁控溅射电源 电弧电源 旋转工件架 电源系统 阳极技术 真空腔 抽真空系统 加热系统 进气系统 接地 上工件 | ||
【权利要求书】：
1.一种基于阳极技术的DLC镀膜装置，包括真空腔、旋转工件架、旋转电弧靶、旋转磁控靶、进气系统、抽真空系统、加热系统和电源系统，所述真空腔接地，其特征是：
所述电源系统包括磁控溅射电源、电弧电源、偏压电源、第一接触器、第二接触器、第三接触器和第四接触器；其中：
偏压电源的阴极连接旋转工件架上工件，通过第一接触器连接偏压电源的阳极和旋转电弧靶，通过第二接触器连接偏压电源的阳极和旋转磁控靶；
磁控溅射电源的阴极连接旋转磁控靶，通过第三接触器连接磁控溅射电源的阳极和旋转电弧靶；
电弧电源的阴极连接旋转电弧靶，通过第四接触器连接电弧电源的阳极和旋转磁控靶；
当进行等离子刻蚀法清洗时，连通第二接触器和第四接触器，断开第一接触器和第三接触器；
当进行磁控溅射法沉积金属过渡层时，连通第一接触器和第三接触器，断开第二接触器和第四接触器；
当进行PaVCD法沉积DLC层时，连通第一接触器，断开第二接触器、第三接触器和第四接触器。
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