[发明专利]阴极隔离挡墙的制备方法、显示面板及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及光刻工艺技术领域，尤其涉及一种阴极隔离挡墙的制备方法、显示面板及其制备方法。

背景技术

目前，在显示面板制造过程中，一般采用阵列工艺在沉底基板上形成图案化阵列，从而得到显示面板，这些显示面板种类比较多，例如：薄膜晶体管阵列面板、有机发光二极管阵列面板等。

其中，有机发光二极管阵列面板在制备过程中，需要在衬底基板上制备阳极层、阴极条以及用于隔离相邻两个阴极条的阴极隔离挡墙，现有技术中，通常采用光刻工艺将正性光刻胶经曝光显影后形成如图1所示的截面为正梯形状的阴极隔离挡墙，但是蒸镀阴极层时，在阳极层和阴极隔离挡墙上形成的阴极层将会为一体成形结构，无法分隔成多个阴极条，这样就会导致其阴极图形化效果较差的问题。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提供一种阴极隔离挡墙的制备方法、显示面板及其制备方法，主要目的是用于使蒸镀在该阴极隔离挡墙上的阴极层部分和蒸镀阳极层上的阴极层部分能够相互分离，提高阴极图形化效果。

为达到上述目的，本发明主要提供如下技术方案：

一方面，本发明实施例提供了一种阴极隔离挡墙的制备方法，包括：

对形成在阳极层上的第一光刻胶层进行曝光得到第一隔离挡墙部分；

在所述第一光刻胶层远离所述阳极层的一侧形成第二光刻胶层，对所述第二光刻胶层进行曝光后得到与所述第一隔离挡墙部分至少部分层叠设置的第二隔离挡墙部分，其中，所述第一隔离挡墙部分包括贴合于所述第二隔离挡墙部分的第一顶面，所述第二隔离挡墙部分包括贴合于第一隔离挡墙部分的第二底面，所述第一顶面在所述阳极层的正投影位于所述第二底面在所述阳极层的正投影内；

对所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层进行显影，得到由所述第一隔离挡墙部分和所述第二隔离挡墙部分组成的阴极隔离挡墙。

进一步的，所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层均为正性光刻胶层。

进一步的，所述第一隔离挡墙部分的高度大于所述第二隔离挡墙部分的高度。

进一步的，所述第一隔离挡墙部分的高度为1-2微米，所述第二隔离挡墙部分的高度为0.5-1微米。

进一步的，所述第一隔离挡墙部分的第一底面宽度为4-8微米，所述第二隔离挡墙部分的第二底面宽度为6-10微米。

另一方面，本发明实施例还提供了一种显示面板的制备方法，包括：

对形成在阳极层上的第一光刻胶层进行曝光得到第一隔离挡墙部分；

在所述第一光刻胶层远离所述阳极层的一侧形成第二光刻胶层，对所述第二光刻胶层进行曝光后得到与所述第一隔离挡墙部分至少部分层叠设置的第二隔离挡墙部分，其中，所述第一隔离挡墙部分包括贴合于所述第二隔离挡墙部分的第一顶面，所述第二隔离挡墙部分包括贴合于第一隔离挡墙部分的第二底面，所述第一顶面在所述阳极层的正投影位于所述第二底面在所述阳极层的正投影内；

对所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层进行显影，得到由所述第一隔离挡墙部分和所述第二隔离挡墙部分组成的阴极隔离挡墙。

另一方面，本发明实施例还提供了一种显示面板，包括：

阳极层和多个阴极隔离挡墙，每个所述阴极隔离挡墙包括相互层叠设置的第一隔离挡墙部分和第二隔离挡墙部分，所述第一隔离挡墙部分设置于所述阳极层上，所述第二隔离挡墙部分设置于所述第一隔离挡墙背离所述阳极层的一侧，其中，所述第一隔离挡墙部分包括贴合于所述第二隔离挡墙部分的第一顶面，所述第二隔离挡墙部分包括贴合于第一隔离挡墙部分的第二底面，所述第一顶面在所述阳极层的正投影位于所述第二底面在所述阳极层的正投影内。

进一步的，所述第一隔离挡墙部分和所述第二隔离挡墙部分包括正性光刻胶。

进一步的，所述第一隔离挡墙部分的高度大于所述第二隔离挡墙部分的高度。

进一步的，所述的显示面板，还包括：

相邻两个所述阴极隔离挡墙之间具有间隙，每个阴极隔离挡墙上都依次设有第一有机功能层和第一阴极层，而相邻两个阴极隔离挡墙之间的所述阳极层区域上依次铺设有第二有机功能层和第二阴极层，其中，相邻的所述第一阴极层和所述第二阴极层相互分离。

进一步的，多个所述第二阴极层分别对应于所述显示面板的多个位置，多个所述第二阴极层用于加载触控信号。