[发明专利]一种低压控制晶硅片磷扩散系统

权利要求书

1.一种低压控制晶硅片磷扩散系统，其特征在于：它包含石英扩散管、真空泵、尾气管、压力传感器、进气管、控制阀门；所述的真空泵通过管道与石英扩散管的尾气管连接，连接管道上设有压力传感器和控制阀门；所述的进气管连接在石英扩散管上。

2.根据权利要求1所述的一种低压控制晶硅片磷扩散系统，其特征在于：所述的石英扩散管与真空泵连接的管道上设有流量表。

3.根据权利要求1所述的一种低压控制晶硅片磷扩散系统，其特征在于：所述的控制阀门与石英扩散管之间的连接管道上设有泄气阀门。

4.一种低压控制晶硅片磷扩散系统，其特征在于：它的工作原理：通过真空泵的抽真空作用，使石英扩散管反应腔内处于真空状态，然后从进气管通入工艺的所有相关气体，扩散过程中使石英扩散管腔室内维持在恒定的真空状态下，从而保证腔室内磷离子浓度的恒定，由于真空条件下气体分子的自由程增加，气体分子在硅片表面的附着能力也有很大的改善，且避免了大量气体的运动，此时磷离子可以稳定的均匀分布在硅片的表面，且在标片表面扩散一层均匀的杂质原子，从而保证扩散的均匀性；由于真空腔室内气流更加的均匀稳定，允许插片更加密集的硅片，可以成倍的增加扩散产能。